Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
Einige Inhalte dieser Anwendung sind derzeit nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2009153235) ANORDNUNG EINES PIEZOAKUSTISCHEN RESONATORS AUF EINEM AKUSTISCHEN SPIEGEL EINES SUBSTRATS, VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DER ANORDNUNG UND VERWENDUNG DER ANORDNUNG
Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

Patentansprüche

1. Anordnung (1) mindestens eines piezoakustischen Resonators (10) auf einer Substratoberfläche (121) eines Substrats (12), wobei

- der Resonator mindestens eine piezoelektrische Schicht (112), eine Elektrode (113) und mindestens eine weitere Elektrode (114) aufweist, die derart aneinander angeordnet sind, dass eine bestimmte elektrische Ansteuerung der Elektroden zu einer Resonanzschwingung des Resonators mit einer Resonanzfrequenz führt,

- die Substratoberfläche des Substrats von einem im Substrat integrierten akustischen Spiegel (14) zur akustischen Isolation des Substrats und des Resonators voneinander gebildet ist und

- mindestens eine Auswerteeinrichtung (13) zur Bestimmung der Resonanzfrequenz des Resonators vorhanden ist, dadurch gekennzeichnet, dass

- die Auswerteeinrichtung und zumindest eine der Elektroden über eine elektrische Leiterbahn (15) elektrisch leitend miteinander verbunden sind und

- die elektrische Leiterbahn durch eine Spiegel-Öffnung (142) des akustischen Spiegel hindurch geführt ist.

2. Anordnung nach Anspruch 1, wobei ein seitlicher Rand (1421) der Spiegel-Öffnung des akustischen Spiegels eine elektrische Öffnungs-Isolationsschicht (1422) mit Öffnungs-Isolationsmaterial aufweist, auf der die elektrische Leiterbahn aufgebracht ist.

3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Auswerteeinrichtung einen im Substrat integrierten Ausleseschaltkreis (131) aufweist, der über die elektrische Leiterbahn mit der

Elektrode elektrisch leitend verbunden ist.

4. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Resonator ein Dünnfilmresonator ist.

5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei eine der Elektroden eine unmittelbar auf dem akustischen Spiegel aufgebrachte Elektrodenschicht aufweist.

6. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die weitere Elektrode eine weitere Elektrodenschicht aufweist, die auf der piezoelektrischen Schicht aufgebracht ist.

7. Anordnung nach Anspruch 6, wobei die weitere Elektroden-schicht derart auf der piezoelektrischen Schicht aufgebracht ist, dass die Elektrodenschicht, die weitere Elektrodenschicht und die piezoelektrische Schicht einen Resonator-Schicht-Stapel (111) bilden, bei dem die piezoelektrische Schicht zwischen den Elektrodenschichten angeordnet ist.

8. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der akustische Spiegel einen Spiegel-Schicht-Stapel (141) aufweist, bei dem abwechselnd übereinander Schichten (1411, 1412) mit im Vergleich zueinander niedrigerer akustischer Impedanz und höherer akustischer Impedanz gestapelt sind, wobei die

Schichten jeweils eine Schichtdicke aufweisen, die etwa einem Viertel einer Resonanzwellenlänge der Resonanzschwingung des Resonators entspricht.

9. Anordnung nach Anspruch 8, wobei die Schichten (1411) mit niedrigerer akustischer Impedanz Silizium-Dioxid aufweisen.

10. Anordnung nach Anspruch 8 oder 9, wobei die Schichten (1412) mit höherer akustischer Impedanz elementares Wolfram aufweisen.

11. Anordnung nach einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei die oberste, die Substratoberfläche des Substrats bildende Schicht des Spiegel-Schicht-Stapels eine elektrische Spiegel-Isolationsschicht (1411) mit elektrischem Spiegel-Isolationsmaterial aufweist und das Spiegel- Isolationsmaterial und das Öffnungs-Isolationsmaterial im Wesentlichen gleich sind.

12. Anordnung nach Anspruch 11, wobei eine Schichtdicke der Spiegel-Isolationsschicht und die Schichtdicke der Öffnungs-Isolationsschicht im Wesentlichen gleich sind.

13. Anordnung nach Anspruch 12, wobei die Spiegel-Isolationsschicht und die Öffnungs-Isolationsschicht eine zusammenhängende Gesamt-Isolationsschicht (143) bilden.

14. Anordnung nach Anspruch 13, wobei das Öffnungs- Isolationsmaterial und das Spiegel-Isolationsmaterial Silizium-Dioxid aufweisen.

15. Verfahren zum Herstellen einer Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 14 mit folgenden Verfahrensschritten: a) Bereitstellen eines Substrats mit einem die Substratoberfläche bildenden akustischen Spiegel und einer im Spiegel vorhandenen Spiegel-Öffnung über die ein Ausleseschaltkreis der Auswerteeinrichtung elektrisch leitend verbindbar ist, und b) Anordnen der elektrischen Leiterbahn in der Spiegel-Öffnung derart, dass der Ausleseschaltkreis und die elektrische Leiterbahn elektrisch leitend verbunden werden.

16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei zum Bereitstellen des Substrats folgende weiteren Verfahrensschritte durchgeführt werden : a' ) Bereitstellen eines Substrats mit einem im Substrat integrierten Ausleseschaltkreises, a' ' ) Aufbringen des akustischen Spiegels auf dem Substrat über dem Ausleseschaltkreis derart, dass der akustische Spiegel die Substratoberfläche des Substrats bildet, und a' ' ' ) Erzeugen der Spiegel-Öffnung im akustischen Spiegel derart, dass der Ausleseschaltkreis zugänglich wird.

17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, wobei ein akustischer Spiegel mit einem Spiegel-Schicht-Stapel verwendet wird, der abwechselnd übereinander gestapelte Schichten aufweist, die im Vergleich zueinander niedrigere oder höhere akustische Impedanzen aufweisen und die jeweils eine Schichtdicke aufweisen, die etwa einem Viertel einer Resonanzwellenlänge der Resonanzschwingung des resultierenden Resonators entspricht.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 17, wobei nach dem Erzeugen der Spiegel-Öffnung die Öffnungs-Isolations-Schicht und während des Aufbringens der Öffnungs-Isolations-Schicht die Spiegel-Isolations-Schicht derart aufgebracht wird, dass die Spiegel-Isolations-Schicht die Substratoberfläche des Substrats bildet.

19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei nach dem Aufbringen der Spiegel-Isolations-Schicht der Resonator auf die durch die Spiegel-Isolations-Schicht gebildete Substratoberfläche des Substrats aufgebracht wird.

20. Verwendung einer Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 14 als physikalischen Transducer einer Vorrichtung zur Detek-tion einer Substanz eines Fluids.