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1. (WO2009152896) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR EINSEITIGEN NASSCHEMISCHEN UND/ODER ELEKTROLYTISCHEN BEHANDLUNG VON GUT
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2009/152896 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2009/003294
Veröffentlichungsdatum: 23.12.2009 Internationales Anmeldedatum: 08.05.2009
IPC:
C25D 5/08 (2006.01) ,C25D 7/12 (2006.01) ,C25D 17/02 (2006.01) ,C25D 17/06 (2006.01) ,H01L 31/0224 (2006.01) ,H01L 31/18 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
5
Besondere Galvanisierverfahren; Vor- oder Nachbehandlung von Werkstücken
08
Galvanisieren mit bewegtem Elektrolyten, z.B. Strahlgalvanisieren
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
7
Galvanisieren von bestimmten Gegenständen
12
Halbleiter
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
17
Konstruktionsteile oder deren Zusammenbauten für Zellen zur elektrolytischen Beschichtung
02
Behälter; Installationen dafür
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
17
Konstruktionsteile oder deren Zusammenbauten für Zellen zur elektrolytischen Beschichtung
06
Aufhänge- oder Tragevorrichtungen
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
31
Halbleiterbauelemente, die auf Infrarot-Strahlung, Licht, elektromagnetische Strahlung kürzerer Wellenlänge als Licht oder Korpuskularstrahlung ansprechen und besonders ausgebildet sind, entweder für die Umwandlung der Energie einer derartigen Strahlung in elektrische Energie oder für die Steuerung elektrischer Energie durch eine derartige Strahlung eingerichtet sind; Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung dieser Halbleiterbauelemente oder Teilen davon; Einzelheiten dieser Bauelemente
02
Einzelheiten
0224
Elektroden
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
31
Halbleiterbauelemente, die auf Infrarot-Strahlung, Licht, elektromagnetische Strahlung kürzerer Wellenlänge als Licht oder Korpuskularstrahlung ansprechen und besonders ausgebildet sind, entweder für die Umwandlung der Energie einer derartigen Strahlung in elektrische Energie oder für die Steuerung elektrischer Energie durch eine derartige Strahlung eingerichtet sind; Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung dieser Halbleiterbauelemente oder Teilen davon; Einzelheiten dieser Bauelemente
18
Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung dieser Bauelemente oder Teilen davon
Anmelder:
RENA GMBH [DE/DE]; Ob der Eck 5 78148 Gütenbach, DE (AllExceptUS)
BÜRGER, Norbert [DE/DE]; DE (UsOnly)
DELAHAYE, Franck [FR/DE]; DE (UsOnly)
KALTENBACH, Konrad [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
BÜRGER, Norbert; DE
DELAHAYE, Franck; DE
KALTENBACH, Konrad; DE
Vertreter:
STÜRKEN, Joachim; Joachim Stürken Patentanwaltsges. mbH Kirchenhölzle 18 79104 Freiburg, DE
Prioritätsdaten:
10 2008 028 847.019.06.2008DE
Titel (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR EINSEITIGEN NASSCHEMISCHEN UND/ODER ELEKTROLYTISCHEN BEHANDLUNG VON GUT
(EN) APPARATUS AND PROCESS FOR THE ONE-SIDED WET-CHEMICAL AND/OR ELECTROLYTIC TREATMENT OF MATERIAL
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT UNILATÉRAL PAR VOIE CHIMIQUE HUMIDE ET/OU ÉLECTROLYTIQUE D'UNE MATIÈRE
Zusammenfassung:
(DE) Die Erfindung betrifft die nasschemische oder elektrolytische Behandlung von ebenem Gut wie beispielsweise einem Wafer, welches nach dem Stand der Technik mittels technisch komplexer Rahmen oder Greifer in Behandlungsräumen behandelt wird. Insbesondere bei bruchempfindlichem Gut wie z.B. Solarzellen aus Silizium ist die Handhabung sehr Zeit aufwändig, insbesondere dann, wenn die Unterseite des Gutes nicht benetzt werden darf. Erfindungsgemäß wird das Gut (1) ohne Rahmen, Greifer oder Halter derart über einem vertikal angeordneten Behandlungsraum (3) abgelegt, dass lediglich die Unterseite von der Behandlungsflüssigkeit benetzt wird. Durch eine rotationssymmetrische Strömung (4) an der Unterseite (7) des auf der Oberfläche einer Behandlungsflüssigkeit abgelegten Gutes neutralisieren sich die auf das Gut (1) horizontal einwirkenden Adhäsionskräfte gegenseitig. Eine seitliche Verschiebung des Gutes erfolgt nicht. Daher kann auf die üblicherweise verwendeten Begrenzer oder seitlichen Endanschläge verzichtet werden.
(EN) The invention relates to the wet-chemical or electrolytic treatment of flat material, for example a wafer, which according to the prior art is treated by means of technically complex frames or grippers in treatment chambers. Particularly in the case of fracture-sensitive material such as silicon solar cells, the handling is very time-consuming, especially when the underside  of the material must not be wetted. According to the invention, the material (1) is placed without frames, grippers or holders above a vertically arranged treatment chamber (3) so that only the underside is wetted by the treatment liquid. As a result of a rotationally symmetric flow (4) on the underside (7) of the material placed on the surface of a treatment liquid, the adhesion forces acting horizontally on the material (1) cancel one another out. A lateral shift of the material does not occur. The limiters or lateral end stops which are usually used can therefore be dispensed with.
(FR) L'invention concerne le traitement chimique par voie humide ou le traitement électrolytique d'une matière plane, par exemple une plaquette, qui est traitée, d'après l'état de la technique, au moyen de cadres complexes ou de griffes dans des espaces de traitement. En particulier, dans le cas de matière sensible à la rupture, telle que par exemple des cellules solaires en silicium, la manipulation demande beaucoup de temps, notamment lorsque la face inférieure de la matière ne doit pas être mouillée. L'invention est caractérisée en ce que la matière (1) est déposée, sans cadres, griffes ou supports, au-dessus d'un espace de traitement (3) disposé verticalement, de telle façon qu'uniquement la face inférieure soit mouillée par le liquide de traitement. Par écoulement (4) par symétrie de rotation sur la face inférieure (7) de la matière déposée sur la surface d'un liquide de traitement, les forces d'adhésion agissant horizontalement sur la matière (1) se neutralisent mutuellement. Un déplacement latéral de la matière n'a pas lieu. Il s'ensuit qu'on peut se dispenser des limiteurs ou des butées latérales de fin de course habituellement utilisés.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Also published as:
EP2201160