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1. (WO2009149899) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MIKROSTRUKTURIERTEN PLASMABEHANDLUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2009/149899 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2009/004143
Veröffentlichungsdatum: 17.12.2009 Internationales Anmeldedatum: 09.06.2009
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 12.01.2010
IPC:
H05H 1/24 (2006.01)
H Elektrotechnik
05
Elektrotechnik, soweit nicht anderweitig vorgesehen
H
Plasmatechnik; Erzeugung von beschleunigten elektrisch geladenen Teilchen oder von Neutronen; Erzeugung oder Beschleunigung von neutralen Molekular- oder Atomstrahlen
1
Erzeugen von Plasma; Handhaben von Plasma
24
Erzeugen von Plasma
Anmelder:
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c 80686 München, DE (AllExceptUS)
THOMAS, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
KLAGES, Claus-Peter [DE/DE]; DE (UsOnly)
ZÄNKER, Antje [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
THOMAS, Michael; DE
KLAGES, Claus-Peter; DE
ZÄNKER, Antje; DE
Vertreter:
PFENNING, MEINIG & PARTNER; Theresienhöhe 13 80339 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2008 027 461.509.06.2008DE
Titel (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MIKROSTRUKTURIERTEN PLASMABEHANDLUNG
(EN) DEVICE AND METHOD FOR MICROSTRUCTURED PLASMA TREATMENT
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PLASMA MICROSTRUCTURÉ
Zusammenfassung:
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur mikrostrukturierten Plasmabehandlung eines Foliensubstrates, insbesondere einer Kunststofffolie, wobei eine drehbar gelagerte zylinderförmige Elektrode, deren Oberfläche Metall, insbesondere Chrom, enthält oder daraus besteht, wobei die Oberfläche mikrostrukturierte Vertiefungen aufweist, eine flächige Hochspannungselektrode, deren Oberfläche eine zur Oberfläche der zylinderförmigen Elektrode komplementäre Form aufweist und weitgehend formschlüssig auf einem Abschnitt der Oberfläche der zylinderförmigen Elektrode anordenbar ist, eine Transportvorrichtung zum Transport des zu behandelnden Foliensubstrates zwischen der Oberfläche der zylinderförmigen Elektrode und der Hochspannungselektrode, sowie eine Vorrichtung zur Einspeisung von Prozessgas auf die Oberfläche der zylinderförmigen Elektrode und in den Zwischenraum zwischen der zylinderförmigen Elektrode und der Hochspannungselektrode.
(EN) The invention relates to a device for the microstructured plasma treatment of a film substrate, especially of a plastic film. Said device comprises a rotatably received cylindrical electrode the surface of which contains or consists of metal, especially chromium, the surface having microstructured depressions, a planar high-voltage electrode the surface of which has a shape complementary to that of the cylindrical electrode and can be arranged on a section of the surface of the cylindrical electrode in a substantially form-fit manner, a transport device for transporting the film substrate to be treated between the surface of the cylindrical electrode and the high-voltage electrode, and a device for feeding a process gas to the surface of the cylindrical electrode and to the interspace between the cylindrical electrode and the high-voltage electrode.
(FR) L'invention concerne un dispositif pour le traitement plasma microstructuré d'un substrat de type film, en particulier d'un film plastique. Le dispositif selon l'invention comprend une électrode cylindrique montée à rotation dont la surface contient du métal, en particulier du chrome, ou en est constituée et présente des creux microstructurés, une électrode haute tension dont la surface a une forme complémentaire de la surface de l'électrode cylindrique et peut être placée sur un segment de la surface de l'électrode cylindrique avec une large complémentarité de forme, un dispositif de transport pour le transport entre la surface de l'électrode cylindrique et de l'électrode haute tension du substrat de type film à traiter, ainsi qu'un dispositif pour l'amenée de gaz de traitement sur la surface de l'électrode cylindrique et dans l'interstice entre l'électrode cylindrique et l'électrode haute tension.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Also published as:
EP2292080JP2011524607US20110259730KR1020110013500