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1. (WO2009143823) HALOGENIERTES POLYSILAN UND PLASMACHEMISCHES VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2009/143823    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE2009/000726
Veröffentlichungsdatum: 03.12.2009 Internationales Anmeldedatum: 27.05.2009
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    29.03.2010    
IPC:
B01J 12/00 (2006.01), C01B 33/107 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Anmelder: SPAWNT PRIVATE S.A.R.L. [LU/LU]; 16, rue Jean l'Aveugle L-1148 Luxembourg (LU) (For All Designated States Except US).
BAUCH, Christian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DELTSCHEW, Rumen [BG/DE]; (DE) (For US Only).
LIPPOLD, Gerd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MOHSSENI-ALA, Seyed-Javad [IR/DE]; (DE) (For US Only).
AUNER, Norbert [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: BAUCH, Christian; (DE).
DELTSCHEW, Rumen; (DE).
LIPPOLD, Gerd; (DE).
MOHSSENI-ALA, Seyed-Javad; (DE).
AUNER, Norbert; (DE)
Vertreter: EPPING HERMANN FISCHER; PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH Ridlerstrasse 55 80339 Munich (DE)
Prioritätsdaten:
10 2008 025 261.1 27.05.2008 DE
Titel (DE) HALOGENIERTES POLYSILAN UND PLASMACHEMISCHES VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
(EN) HALOGENATED POLYSILANE AND PLASMA-CHEMICAL PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) POLYSILANE HALOGÉNÉ ET SON PROCÉDÉ CHIMIQUE DE PRODUCTION ASSISTÉ PAR PLASMA
Zusammenfassung: front page image
(DE)Es werden ein halogeniertes Polysilan (im Folgenden Polysilan genannt) als reine Verbindung oder Gemisch von Verbindungen sowie ein plasmachemisches Verfahren zur Herstellung desselben beschrieben. Das Polysilan ist besonders gut löslich und schmelzbar und durch signifikante Produktsignale in speziellen chemischen Verschiebungsbereichen in 29Si-NMR-Spektren charakterisiert. Bei dem Verfahren zur Herstellung des halogenierten Polysilans wird mit einem geringen Wasserstoffanteil und einer besonders niedrigen Energiedichte in Bezug auf die Plasmaentladung gearbeitet. Hierdurch lässt sich ein halogeniertes Polysilan herstellen, das besonders gut löslich ist.
(EN)The invention relates to a halogenated polysilane (referred to in the following as polysilane) as a pure compound or as a mixture of compounds and to a plasma-chemical process for producing the same. The polysilane is particularly soluble and fusible and is characterized by significant product signals in special chemical shifts in 29Si NMR spectra. The process for producing the halogenated polysilane is characterized by using a low hydrogen portion and an especially low power density regarding the plasma discharge, thereby allowing the production of a halogenated polysilane which is particularly soluble.
(FR)L'invention concerne une polysilane halogéné (désigné ci-après par polysilane) sous forme de composé pur ou de mélange de composés, ainsi que son procédé chimique de production assisté par plasma. Ce polysilane présente une solubilité et une fusibilité particulièrement bonnes et se caractérise par des signaux de produit significatifs dans des plages de déplacement chimique particulières dans des spectres RMN 29Si. Ce procédé de production de polysilane halogéné est mis en oeuvre avec une faible quantité d'hydrogène et une densité d'énergie particulièrement faible en ce qui concerne la décharge plasma. On obtient ainsi un polysilane halogéné présentant une solubilité particulièrement bonne.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)