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1. (WO2009080279) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2009/080279 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2008/010801
Veröffentlichungsdatum: 02.07.2009 Internationales Anmeldedatum: 18.12.2008
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
LAYH, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; DE (UsOnly)
PATRA, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
WANGLER, Johannes [DE/DE]; DE (UsOnly)
MAUL, Manfred [DE/DE]; DE (UsOnly)
FIOLKA, Damian [DE/DE]; DE (UsOnly)
WEISS, Gundula [DE/DE]; DE (UsOnly)
CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
Erfinder:
LAYH, Michael; DE
DEGÜNTHER, Markus; DE
PATRA, Michael; DE
WANGLER, Johannes; DE
MAUL, Manfred; DE
FIOLKA, Damian; DE
WEISS, Gundula; DE
Vertreter:
SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestrasse 14 70597 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
10 2008 008 019.507.02.2008DE
61/015,91821.12.2007US
Titel (EN) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung:
(EN) A projection exposure apparatus for microlithography comprises illumination optics for illuminating object field points of an object field in an object plane. The illumination optics have, for each object field point of the object field, an exit pupil associated with the object point, wherein sin(&ggr;) is a greatest marginal angle value of the exit pupil, and wherein the illumination optics comprise a multi-mirror array (38) comprising a plurality of mirrors (38s) for adjusting an intensity distribution in exit pupils associated to the object field points. The illumination optics further contain at least one optical system (33a; 33b,; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203) for temporally stabilising the illumination of the multi-mirror array (38) so that, for each object field point, the intensity distribution in the associated exit pupil deviates from a desired intensity distribution in the associated exit pupil in the case of a centroid angle value sin(β) by less than 2% expressed in terms of the greatest marginal angle value sin(&ggr;) of the associated exit pupil and/or, in the case of ellipticity by less than 2%, and/or in the case of a pole balance by less than 2%.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition par projection pour la microlithographie comprenant des éléments optiques d'éclairage permettant d'éclairer des points de champ d'objet d'un champ d'objet dans un plan d'objet. Les éléments optiques d'éclairage comprennent, pour chaque point de champ d'objet du champ d'objet, une pupille de sortie associée au point d'objet, dans laquelle sin(g) est une valeur maximale de l'angle marginal de la pupille de sortie, les éléments optiques d'éclairage comprenant une matrice à plusieurs miroirs (38) comprenant une pluralité de miroirs (38s) permettant d'ajuster une répartition d'intensité dans les pupilles de sortie associées aux points de champ d'objet. Les éléments optiques d'éclairage comprennent en outre au moins un système optique (33a ; 33b ; 33c ; 33d ; 400 ; 822 ; 903 ; 1010 ; 1103 ; 1203) adapté à stabiliser temporairement l'éclairage de la matrice à plusieurs miroirs (38) de telle sorte que, pour chaque point de champ d'objet, la répartition d'intensité dans la pupille de sortie associée dévie, par rapport à une répartition d'intensité souhaitée dans la pupille de sortie associée, de moins de 2 % dans le cas d'une valeur d'angle centroïde sin(b) - tel qu'exprimé en termes de valeur maximale de l'angle marginal sin(g) de la pupille de sortie associée - et/ou de moins de 2 % en cas d'ellipticité et/ou de moins de 2 % en cas d'équilibre polaire.
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)