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1. (WO2009036995) ELECTROSTATIC CLAMP, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROSTATIC CLAMP
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2009/036995    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2008/007916
Veröffentlichungsdatum: 26.03.2009 Internationales Anmeldedatum: 19.09.2008
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
SIJBEN, Anko, Jozef, Cornelus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN EMPEL, Tjarko, Adriaan, Rudolf [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VISSER, Raimond [NL/NL]; (NL) (For US Only).
FRANSSEN, Johannes, Hendrikus, Gertrudis [NL/NL]; (NL) (For US Only).
YANG, Zongquan [NL/NL]; (NL) (For US Only).
BRALS, Albert [NL/NL]; (NL) (For US Only).
RIJPMA, Albert, Pieter [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Erfinder: SIJBEN, Anko, Jozef, Cornelus; (NL).
VAN EMPEL, Tjarko, Adriaan, Rudolf; (NL).
VISSER, Raimond; (NL).
FRANSSEN, Johannes, Hendrikus, Gertrudis; (NL).
YANG, Zongquan; (NL).
BRALS, Albert; (NL).
RIJPMA, Albert, Pieter; (NL)
Vertreter: SLENDERS, Petrus, Johannes, Waltherus; ASML Corporate Intellectual Property, P.O. Box 324, NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Prioritätsdaten:
11/902,501 21.09.2007 US
Titel (EN) ELECTROSTATIC CLAMP, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROSTATIC CLAMP
(FR) SEMELLE ÉLECTROSTATIQUE, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE SEMELLE ÉLECTROSTATIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)The invention relates to an electrostatic clamp for use in a lithographic apparatus comprising a layer of material provided with burls, wherein an electrode surrounded by an insulator and or a dielectric material is provided in between the burls and a method of manufacturing such an electrostatic clamp. The electrostatic clamp may be used to clamp an object to an object Support in a lithographic apparatus.
(FR)La présente invention concerne une semelle électrostatique pouvant être utilisée dans un appareil de lithographie, comprenant une couche de matériau pourvu de bosses, une électrode entourée d'un isolant ou d'un matériau diélectrique étant prévue entre les bosses, et un procédé de fabrication d'une telle semelle électrostatique. Cette semelle électrostatique peut être utilisée pour maintenir un objet sur un support d'objet dans un appareil de lithographie.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)