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1. WO2008135008 - KURZTAKTNIEDERDRUCKPLASMAANLAGE

Veröffentlichungsnummer WO/2008/135008
Veröffentlichungsdatum 13.11.2008
Internationales Aktenzeichen PCT/DE2008/000655
Internationales Anmeldedatum 18.04.2008
IPC
H01J 37/32 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
CPC
H01J 37/32009
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
H01J 37/32045
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32018Glow discharge
32045Circuits specially adapted for controlling the glow discharge
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H01J 37/32311
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32192Microwave generated discharge
32311Circuits specially adapted for controlling the microwave discharge
H01J 37/3444
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3411Constructional aspects of the reactor
3444Associated circuits
Anmelder
  • DIENER, Christof-Herbert [DE/DE]; DE
Erfinder
  • DIENER, Christof-Herbert; DE
Vertreter
  • KOHLER SCHMID MÖBUS; Patentanwälte Ruppmannstrasse 27 70565 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten
10 2007 021 386.904.05.2007DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) KURZTAKTNIEDERDRUCKPLASMAANLAGE
(EN) SHORT-CYCLE LOW-PRESSURE PLASMA SYSTEM
(FR) ÉQUIPEMENT À PLASMA À BASSE PRESSION À CYCLE COURT
Zusammenfassung
(DE)
Vorgeschlagen wird eine Niederdruckplasmaanlage (1) zur Behandlung einer Oberfläche eines Werkstückes (2) in einem Niederdruckplasma (3), mit einer bevorzugt mittels einer Vakuumpumpe (4) zumindest teilevakuierbaren Prozesskammer (5), wobei eine Elektrode (10) zur Erzeugung des Niederdruckplasmas (3) in der Prozesskammer (5), durch Einspeisung elektrischer und/oder elektromagnetischer Energie in ein in der Prozesskammer (5) vorhandenes Gas, vorgesehen ist, und einem elektrischen Generator (12), eingerichtet zur Beaufschlagung der Elektrode (10) mit elektrischer Spannung, wobei der Generator (12) eingerichtet ist, die Elektrode (10) derart mit elektrischer Spannung zu beaufschlagen, dass eine Menge der eingespeisten Energie zwischen 0,1 und 100, bevorzugt 1, Kilojoule pro Liter des Volumens des zu erzeugenden Niederdruckplasmas (3) eingespeist wird. Dabei ist der Generator (12) eingerichtet, die Menge der eingespeisten Energie in einem Puls mit einer Zeitdauer kleiner eine Sekunde, bevorzugt kleiner als 10 Millisekunden, bereit zu stellen.
(EN)
The invention relates to a low-pressure plasma system (1) for treating a surface of a workpiece (2) in a low-pressure plasma (3), comprising a process chamber (5) that can be partially evacuated, preferably by means of a vacuum pump (4), wherein an electrode (10) is provided for generating the low-pressure plasma (3) in the process chamber (5) by feeding electrical and/or electromagnetic energy into a gas present in the process chamber (5), and an electrical generator (12) equipped to charge the electrode (10) with electrical voltage, wherein the generator (12) is equipped to charge the electrode (10) with electrical voltage such that an amount of the infed energy between 0.1 and 100, preferably 1, kilojoule per liter of volume of the low-pressure plasma (3) to be generated is fed in. The generator (12) is equipped to provide the amount of the infed energy in a pulse having a time duration of less than a second, preferably less than 10 milliseconds.
(FR)
L'invention concerne un équipement à plasma basse pression (1) destiné au traitement d'une surface d'une pièce (2) dans un plasma à basse pression (3), comprenant une chambre de traitement (5) dans laquelle peut être établi un vide au moins partiel de préférence au moyen d'une pompe à vide (4). L'objet de l'invention comprend une électrode (10) destinée à générer le plasma à basse pression (3) dans la chambre de traitement (5) en appliquant de l'énergie électrique et/ou électromagnétique dans un gaz présent dans la chambre de traitement (5) ainsi qu'un générateur électrique (12) conçu pour soumettre l'électrode (10) à une tension électrique. Selon l'invention, le générateur (12) est configuré pour soumettre l'électrode (10) à une tension électrique de manière à injecter une quantité d'énergie comprise entre 0,1 et 100, de préférence égale à 1 kilojoule par litre de volume de plasma à basse pression (3) à générer. Le générateur (12) est ici conçu pour délivrer la quantité d'énergie injectée dans une impulsion dont la durée est inférieure à une seconde, de préférence inférieure à 10 millisecondes.
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