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1. (WO2008080537) PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE LITHOGRAPHIE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2008/080537 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2007/010962
Veröffentlichungsdatum: 10.07.2008 Internationales Anmeldedatum: 13.12.2007
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/00 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
27
Andere optische Systeme; andere optische Geräte
Anmelder:
CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
CONRADI, Olaf [DE/DE]; DE (UsOnly)
JUERGENS, Dirk [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
CONRADI, Olaf; DE
JUERGENS, Dirk; DE
Vertreter:
HEUCKEROTH, Volker ; Witte, Weller & Partner Postfach 105462 70047 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
10 2006 062 669.929.12.2006DE
Titel (DE) PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE LITHOGRAPHIE
(EN) LITHOGRAPHIC PROJECTION LENS
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION POUR LA LITHOGRAPHIE
Zusammenfassung:
(DE) Ein Projektionsobjektiv (10) für die Lithographie weist eine optische Anordnung (30) optischer Elemente (32) entlang einer Lichtausbreitungsrichtung zwischen einer Objektebene (O) und einer Bildebene (B) auf. Die optische Anordnung (30) weist zumindest eine erste Pupillenebene (P1, P2) und zumindest ein erstes und zweites Korrekturelement (38a, b) zu Korrektur thermisch induzierte Abbildungsfehler auf, die jeweils in einem Bereich angeordnet sind, der zur zumindest ersten Pupillenebene (P1, P2) zumindest optisch nah ist.
(EN) Disclosed is a lithographic projection lens (10) comprising an optical array (30) of optical elements (32) between an object plane (O) and an image plane (B) along a direction of diffusion of the light. The optical array (30) has at least one first pupil plane (P1, P2) as well as at least one first and second corrective element (38a, b) for correcting thermally induced optical aberrations, each of which is located in an area that is at least optically close to the at least one first pupil plane (P1, P2).
(FR) L'invention concerne un objectif de projection (10) pour la lithographie, cet objectif comprenant un ensemble optique (30) d'éléments optiques (32) disposés le long d'une direction de diffusion de la lumière entre un plan objet (O) et un plan image (B). L'ensemble optique (30) présente au moins un premier plan pupille (P1, P2) et au moins un premier et un second élément de correction (38a, b) destinés à corriger les erreurs de reproduction d'origine thermique, chacun de ces éléments étant disposé dans une région au moins optiquement proche du ou des premiers plans pupilles (P1, P2).
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Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)