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1. (WO2008077807) QUARZGLAS-BAUTEIL MIT REFLEKTORSCHICHT SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2008/077807 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2007/063874
Veröffentlichungsdatum: 03.07.2008 Internationales Anmeldedatum: 13.12.2007
IPC:
C03C 17/25 (2006.01) ,G02B 5/02 (2006.01) ,H01K 1/32 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
03
Glas; Mineral- oder Schlackenwolle
C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails; Oberflächenbehandlung von Glas; Oberflächenbehandlung von Fasern oder Fäden aus Glas, Mineralien oder Schlacken; Verbinden von Glas mit Glas oder anderen Stoffen
17
Oberflächenbehandlung von Glas, z.B. entglastem Glas, außer Fasern oder Filamenten aus Glas, durch Überziehen
22
mit anderen anorganischen Stoffen
23
Oxide
25
durch Abscheidung aus der flüssigen Phase
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
5
Optische Elemente außer Linsen
02
Lichtstreuende Elemente; afokale Elemente
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
K
Elektrische Glühlampen
1
Einzelheiten
28
Kolben; Gefäße
32
mit Überzügen auf den Wänden; Kolben oder Kolbenüberzüge, gekennzeichnet durch den verwendeten Werkstoff
Anmelder:
HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Quarzstrasse 8 D-63450 Hanau, DE (AllExceptUS)
SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 22-2, Nishi-Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku Tokyo, Tokyo 160-0023, JP (JP)
WERDECKER, Waltraud [DE/DE]; DE (UsOnly)
GERHARDT, Rolf [DE/DE]; DE (UsOnly)
WEBER, Juergen [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
WERDECKER, Waltraud; DE
GERHARDT, Rolf; DE
WEBER, Juergen; DE
Vertreter:
STAUDT, Armin; Auf der Mauer 8 D-63674 Altenstadt, DE
Prioritätsdaten:
102006062166.222.12.2006DE
Titel (DE) QUARZGLAS-BAUTEIL MIT REFLEKTORSCHICHT SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN
(EN) QUARTZ GLASS COMPONENT WITH REFLECTOR LAYER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COMPOSANT EN VERRE QUARTZEUX À COUCHE RÉFLÉCHISSANTE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Zusammenfassung:
(DE) Es sind Verfahren zur Herstellung eines Quarzglas-Bauteils mit Reflektorschicht bekannt, bei dem auf mindestens einem Teil der Oberfläche eines Substratkörpers aus Quarzglas eine als diffuser Reflektor wirkende Reflektorschicht aus Quarzglas erzeugt wird. Um hiervon ausgehend ein Verfahren anzugeben, das eine kostengünstige und reproduzierbare Herstellung gleichmäßiger SiO2-Reflektorschichten auf Quarzglas-Bauteilen ermöglicht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Reflektorschicht durch thermisches Spritzen erzeugt wird, indem SiO2-Teilchen einemEnergieträger zugeführt, mittels diesem an-oder aufgeschmolzen und auf dem Substratkörper abgelagert werden. Bei einem nach dem Verfahren erhaltenen Quarzglas-Bauteil ist die SiO2-Reflektorschicht als durch thermisches Spritzen erzeugte und opak wirkende Schicht ausgebildet, die sich durch Rissfreiheit und Gleichmäßigkeit auszeichnet.
(EN) Methods for producing a quartz glass component with reflector layer are known in which a reflector layer composed of quartz glass acting as a diffuse reflector is produced on at least part of the surface of a substrate body composed of quartz glass. In order, taking this as a departure point, to specify a method which enables cost-effective and reproducible production of uniform SiO2 reflector layers on quartz glass components, it is proposed according to the invention that the reflector layer is produced by thermal spraying by means of SiO2 particles being fed to an energy carrier, being incipiently melted or melted by means of said energy carrier and being deposited on the substrate body. In the case of a quartz glass component obtained according to the method, the SiO2 reflector layer is formed as a layer which is produced by thermal spraying and has an opaque effect and which is distinguished by freedom from cracks and uniformity.
(FR) La présente invention concerne des procédés de fabrication d'un composant en verre quartzeux avec une couche réfléchissante, dans lequel une couche réfléchissante en verre quartzeux servant de réflecteur diffus est produite sur au moins une partie de la surface d'un corps de substrat en verre quartzeux. Afin que ce procédé permette une fabrication reproductible et économique de couches réfléchissantes en SiO2 uniformes sur des composants en verre quartzeux, l'invention propose que la couche réfléchissante soit produite par pulvérisation thermique en dirigeant les particules de SiO2 sur un porteur d'énergie au moyen duquel elle sont fondues et étendues sur le corps de substrat. Dans un composant en verre quartzeux obtenu d'après le procédé, la couche réfléchissante de SiO2 est constituée sous forme d'une couche produite par pulvérisation thermique et opaque qui se caractérise par l'absence de fissures et son uniformité.
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
SG152681IL198953KR1020090100372EP2102125JP2010513198US20090316268
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