WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2008061681) BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE PROJEKTIONS-MIKROLITHOGRAFIE SOWIE MESS- UND ÜBERWACHUNGSVERFAHREN FÜR EINE DERARTIGE BELEUCHTUNGSOPTIK
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/061681    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2007/009971
Veröffentlichungsdatum: 29.05.2008 Internationales Anmeldedatum: 19.11.2007
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LAYH, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAUL, Manfred [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE).
LAYH, Michael; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE).
MAUL, Manfred; (DE)
Vertreter: HOFMANN, Matthias; Königstrasse 2, 90402 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2006 054 746.2 21.11.2006 DE
Titel (DE) BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE PROJEKTIONS-MIKROLITHOGRAFIE SOWIE MESS- UND ÜBERWACHUNGSVERFAHREN FÜR EINE DERARTIGE BELEUCHTUNGSOPTIK
(EN) ILLUMINATION LENS SYSTEM FOR PROJECTION MICROLITHOGRAPHY, AND MEASURING AND MONITORING METHOD FOR SUCH AN ILLUMINATION LENS SYSTEM
(FR) OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE PAR PROJECTION ET PROCÉDÉ DE MESURE ET DE CONTRÔLE POUR UNE TELLE OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage (1) hat ein Beleuchtungssystem (4) mit einer Beleuchtungsoptik (5) zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes in einer Retikelebene (6). Eine Lichtverteilungseinrichtung (12a), die ein Lichtablenkungs-Array (12) aus Einzelelementen umfasst, sowie eine optische Baugruppe (21, 23 bis 26), die die von der Lichtverteilungseinrichtung (12a) in einer ersten Ebene (19) der Beleuchtungsoptik (5) vorgegebene Lichtintensitätsverteilung in eine Beleuchtungswinkelverteilung in der Retikelebene (6) umsetzt, gehört ebenfalls zur Beleuchtungsoptik (5). Eine orts- und zeitaufgelöste Detektionseinrichtung (30) wird nach einer im Lichtweg zwischen dem Lichtablenkungs-Array (12) und der Retikelebene (6) positionierten Auskoppeleinrichtung (17) derart mit ausgekoppeltem Beleuchtungslicht (31) beaufschlagt, dass die Detektionseinrichtung (30) eine der Lichtintensitätsverteilung in der ersten Ebene (19) entsprechende Lichtintensitätsverteilung erfasst. Mit der Detektionseinrichtung (30) kann insbesondere mit einer zeitlichen Variation von Einzelelementen oder Gruppen von Einzelelementen deren Einfluss auf die Lichtintensitätsverteilung in der ersten Ebene (19) bestimmt werden. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, bei der die Funktion des Lichtablenkungs-Arrays während des Normalbetriebs erfolgt.
(EN)Disclosed is a microlithographic projection exposure system (1) comprising an illumination system (4) with an illumination lens system (5) for illuminating an illumination field on a reticle level (6). The illumination lens system is equipped with a light distribution device (12a) encompassing a light deflection array (12) made up of individual elements, and an optical subassembly (21, 23 to 26) which converts the light intensity distribution predefined on a first level (19) of the illumination lens system (5) into an illumination angle distribution on the reticle level (6). Extracted illumination light (31) is applied to a spatially and time-resolved detection device (30) downstream of an extraction device (17) located between the light deflection array (12) and the reticle plane (6) within the light path in such a way that the detection device (30) detects a light intensity distribution corresponding to the light intensity distribution on the first level (19). The detection device (30) allows the influence of individual elements or groups of individual elements on the light intensity distribution on the first level (19) to be determined, especially by varying said individual elements or groups thereof over time. The light deflection array of the disclosed illumination lens system functions during normal operation.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'éclairage par projection microlithographique (1) comportant un système d'éclairage (4) pourvu d'une optique d'éclairage (5) pour l'éclairage d'un champ d'éclairage dans un plan réticulaire (6). Un dispositif de répartition de lumière (12a) comportant un réseau de déviation de lumière (12) composé d'éléments individuels, ainsi qu'un module optique (21, 23, 26) transformant la répartition d'intensité lumineuse définie par le dispositif de répartition de lumière (12a) dans un premier plan (19) de l'optique d'éclairage (5), en une répartition d'angle d'éclairage dans le plan réticulaire (6), appartient également à l'optique d'éclairage (5). Un dispositif de détection (30) à résolution spatiale et temporelle reçoit de la lumière d'éclairage (31) d'un dispositif d'application (17) situé dans la trajectoire lumineuse, entre le réseau de déviation de lumière (12) et le plan réticulaire (6), de telle manière que le dispositif de détection (30) détecte une répartition d'intensité lumineuse correspondant à la répartition d'intensité lumineuse dans le premier plan (19). Le premier dispositif (30) de détection permet notamment de déterminer, par variation temporelle d'éléments individuels ou de groupes d'éléments individuels, l'influence de ces éléments individuels sur la répartition d'intensité lumineuse dans le premier plan (19). Il en résulte une optique d'éclairage dont la fonction du réseau de déviation de lumière est réalisée en fonctionnement normal.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)