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1. (WO2008019860) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE HALBLEITERLITHOGRAPHIE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/019860    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2007/007256
Veröffentlichungsdatum: 21.02.2008 Internationales Anmeldedatum: 16.08.2007
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 7/14 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudof-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
MELZER, Frank [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KWAN, Yim Bun, Patrick [GB/DE]; (DE) (For US Only).
XALTER, Stefan [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FIOLKA, Damian [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: MELZER, Frank; (DE).
KWAN, Yim Bun, Patrick; (DE).
XALTER, Stefan; (DE).
FIOLKA, Damian; (DE)
Vertreter: LORENZ & KOLLEGEN; Patentanwälte Partnerschaftsgesellschaft, Alte Ulmer Strasse 2, 89522 Heidenheim (DE)
Prioritätsdaten:
10 2006 038 455.5 16.08.2006 DE
60/822,547 16.08.2006 US
Titel (DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE HALBLEITERLITHOGRAPHIE
(EN) OPTICAL SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE À SEMI-CONDUCTEUR
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Halbleiterlithographie mit mehreren optischen Komponenten (1), wobei zur Einstellung verschiedener Betriebskonfigurationen des optischen Systems mindestens eine Stelleinheit (2) zur Positionierung mindestens einer optischen Komponente (1) an definierten Positionen entlang einer optischen Achse des optischen Systems vorhanden ist, wobei die Stelleinheit (2) an mindestens einem Angriffspunkt (3) an der optischen Komponente (1) angreift. Dabei ist die Stelleinheit (2) in der Weise ausgebildet, dass zwischen zwei verschiedenen Betriebskonfigurationen innerhalb eines Zeitraums von kleiner als 500 ms, vorzugsweise kleiner als 50ms gewechselt werden kann.
(EN)The invention relates to an optical system for semiconductor lithography, comprising several optical components (1). In order to control different operational configurations of the optical system, said system comprises at least one control unit (2) for positioning at least one optical component (1) on defined positions along an optical axis of the optical system. Said control unit (2) engages with at least one contact point (3) on the optical components (1). The control unit (2) is configured in such a manner that it can be changed between two different operational configurations within a time frame of less than 500 ms, preferably less than 50ms.
(FR)La présente invention concerne un système optique destiné à la lithographie à semi-conducteur, comprenant plusieurs composants optiques (1). Afin de régler différentes configurations de fonctionnement du système optique, celui-ci présente au moins une unité de réglage (2) destinée à positionner au moins un composant optique (1) en des emplacements définis le long de l'axe optique du système optique, l'unité de réglage (2) venant en prise avec le composant optique (1) en au moins un point de prise (3). Selon l'invention, l'unité de réglage (2) est conçue de sorte qu'un changement peut avoir lieu entre différentes configurations de fonctionnement pendant un intervalle de temps inférieur à 500 ms, de préférence inférieur à 50ms.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)