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1. (WO2008017620) REINIGUNGSFORMULIERUNG FÜR GESCHIRRSPÜLMASCHINEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/017620    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2007/057884
Veröffentlichungsdatum: 14.02.2008 Internationales Anmeldedatum: 31.07.2007
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    04.06.2008    
IPC:
C11D 3/37 (2006.01), C11D 3/33 (2006.01), C11D 1/825 (2006.01), C11D 1/66 (2006.01)
Anmelder: BASF SE [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE) (For All Designated States Except US).
VANDERMEULEN, Guido [NL/DE]; (DE) (For US Only).
HERRERA TABOADA, Lidcay [CU/DE]; (DE) (For US Only).
SEEBECK, Tanja [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: VANDERMEULEN, Guido; (DE).
HERRERA TABOADA, Lidcay; (DE).
SEEBECK, Tanja; (DE)
Vertreter: HUHN, Michael; Isenbruck Bösl Hörschler Wichmann Huhn LLP, Theodor-Heuss-Anlage 12, 68165 Mannheim (DE)
Prioritätsdaten:
06118722.5 10.08.2006 EP
Titel (DE) REINIGUNGSFORMULIERUNG FÜR GESCHIRRSPÜLMASCHINEN
(EN) CLEANING FORMULATION FOR A DISH WASHER
(FR) formulation de nettoyage pour des lave-vaisselle
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine Reinigungsformulierung für die maschinelle Geschirrreinigung enthält: a) 1 bis 20 Gew.-% an einem oder mehreren Copolymeren, erhältlich durch Po- lymerisation von aa) 5 bis 80 Gew.-% an einer oder mehreren monoethylenisch ungesättigten Monocarbonsäuren oder deren Salzen, bb) 5 bis 60 Gew.-% an einer oder mehreren monoethylenisch ungesättigten Dicarbonsäuren oder deren Salzen oder Anhydriden, cc) 1 bis 50 Gew.-% an einer oder mehreren Sulfonsäuregruppen-haltigen Monomeren oder deren Salzen und dd) 0 bis 50 Gew.-% an weiteren ionischen oder nichtionogenen Monomeren; b) 1 bis 50 Gew.-% an einem oder mehreren Komplexbildnern aus der Gruppe bestehend aus Nitrilotriessigsäure, Ethylendiamintetraessigsäure und Glycin-N,N-diessigsäure-Derivaten, Glutaminsäure-N,N-diessigsäure, Iminodisuccinat, Hydroxyiminodisuccinat, S,-S-Ethylendiamindisuccinat, Asparaginsäurediessigsäure und deren Salzen; c) 1 bis 15 Gew.-% nichtionische Tenside; d) 0 bis 30 Gew.-% Bleichmittel und gegebenenfalls Bleichaktivatoren; e) 0 bis 60 Gew.-% weitere Builder; f) 0 bis 8 Gew.-% Enzyme und 0 bis 50 Gew.-% an einem oder mehreren weiteren Zusatzstoffen, wie anionische oder zwitterionische Tenside, Bleichkatalysatoren, Alkaliträger, Korrosionsinhibitoren, Entschäumer, Farbstoffe, Duftstoffe, Füllstoffe, organische Lösungsmittel und Wasser.
(EN)A cleaning formulation for machine dishwashing, comprising: a) 1 to 20 % by weight of one or more copolymers, obtainable by polymerization of aa) 5 to 80 % by weight of one or more monoethylenic unsaturated monocarbon acids or the salts thereof, bb) 5 to 60 % by weight of one or several monoethylecic unsaturated dicarbon acids or the salts or anhydrides thereof, cc) 1 to 50% by weight of one or more sulfon acid containing monomers or the salts thereof and dd) 0 to 50 % by weight of further ionic or non-ionic monomers: b) 1 to 50 % by weight of one or more complexing agents from the group consisting of nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycine-N,N-diacetic acid, glutamic acid-N,N-diacetic acid, minodisuccinate, hydroxyiminodisuccinate, S,S-ethylenediamine-disuccinate aspartic acid-diacetic acid, and the salts thereof: c) 1 to 15 % by weight nonionic surfectants; d) 0 to 30 % by weight of bleaches and optionally bleach activators: e) 0 to 60 % by weight of one or more further additives, such as anionic or zwitterionic surfactants, bleach catalysts, alkali carriers, corrosion inhibitors, antifoams, dyes, fragrances, fillers, organic solvents and water.
(FR)L'invention concerne une formulation de nettoyage pour le lavage de la vaisselle à la machine, qui contient : a) 1 à 20 % en poids d'un ou de plusieurs copolymères, pouvant être obtenus par polymérisation de aa) 5 à 80 % en poids d'un ou de plusieurs acides monocarboxyliques à insaturation monoéthylénique ou de leurs sels, bb) 5 à 60 % en poids d'un ou de plusieurs acides dicarboxyliques à insaturation monoéthylénique ou de leurs sels ou anhydrides, cc) 1 à 50 % en poids d'un ou de plusieurs monomères à teneur en groupe acide sulfonique, ou de leurs sels et dd) 0 à 50 % en poids d'autres monomères ioniques ou non ionogènes ; b) 1 à 50 % en poids d'un ou de plusieurs complexants parmi le groupe consistant en l'acide nitrilotriacétique, l'acide éthylène diamine tétracétique et les dérivés de l'acide glycine-N,N-diacétique, l'acide glutaminique-N,N-diacétique, l'iminodisuccinate, l'hydroxyiminodisuccinate, le S,S-éthylènediaminedisuccinate, l'acide aspartique-diacétique et leurs sels ; c) 1 à 15 % en poids de tensio-actifs non ioniques ; d) 0 à 30 % en poids d'agents de blanchiment et, le cas échéant, d'activateurs de blanchiment ; e) 0 à 60 % en poids d'autres adjuvants ; f) 0 à 8 % en poids d'enzymes et 0 à 50 % en poids d'un ou de plusieurs autres additifs, comme des tensio-actifs anioniques ou zwitterioniques, des catalyseurs de blanchiment, des supports d'alcalis, des inhibiteurs de corrosion, des agents anti-mousse, des colorants, des matières odoriférantes, des charges, des solvants organiques et de l'eau.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)