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1. (WO2008017426) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MINDESTENS EINES MEHRSCHICHTKÖRPERS SOWIE MEHRSCHICHTKÖRPER
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/017426    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2007/006884
Veröffentlichungsdatum: 14.02.2008 Internationales Anmeldedatum: 03.08.2007
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    30.05.2008    
IPC:
H01L 51/00 (2006.01)
Anmelder: OVD KINEGRAM AG [CH/CH]; Zählerweg 12, CH-6301 Zug (CH) (For All Designated States Except US).
SCHNEIDER, Gernot [DE/CH]; (CH) (For US Only).
STAUB, René [CH/CH]; (CH) (For US Only).
TOMPKIN, Wayne, Robert [US/CH]; (CH) (For US Only).
HANSEN, Achim [DE/CH]; (CH) (For US Only)
Erfinder: SCHNEIDER, Gernot; (CH).
STAUB, René; (CH).
TOMPKIN, Wayne, Robert; (CH).
HANSEN, Achim; (CH)
Vertreter: ZINSINGER, Norbert; Louis.Pöhlau.Lohrentz, Postfach 30 55, 90014 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2006 037 433.9 09.08.2006 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MINDESTENS EINES MEHRSCHICHTKÖRPERS SOWIE MEHRSCHICHTKÖRPER
(EN) METHOD FOR PRODUCING AT LEAST ONE MULTILAYER BODY, AND MULTILAYER BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'AU MOINS UN CORPS MULTICOUCHE ET CORPS MULTICOUCHE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers, wobei der Mehrschichtkörper, mindestens zwei Funktionsschichten auf einer Oberseite eines Trägersubstrats umfasst, welche im Register zueinander strukturiert werden, indem eine Unterseite des Trägersubstrats derart präpariert wird, dass in einem ersten Bereich eine Durchlässigkeit für eine erste Belichtungsstrahlung und in mindestens einem zweiten Bereich eine Durchlässigkeit für mindestens eine dazu unterschiedliche zweite Belichtungsstrahlung im Register zum ersten Bereich resultiert, dass die Unterseite nacheinander mit der ersten und der mindestens einen zweiten Belichtungsstrahlung belichtet wird, und dass die erste Belichtungsstrahlung zur Strukturierung einer ersten Funktionsschicht und die mindestens eine zweite Belichtungsstrahlung zur Strukturierung mindestens einer zweiten Funktionsschicht auf der Oberseite des Trägersubstrats verwendet wird.
(EN)The invention relates to a method for producing a multilayer body, wherein the multilayer body comprises at least two functional layers on a top side of a carrier substrate, which are patterned in register with one another by preparing an underside of the carrier substrate in such a way that in a first region there results a transmissivity for a first exposure radiation and in at least one second region there results a transmissivity for at least one second exposure radiation, different from said first exposure radiation, in register with the first region, that the underside is successively exposed with the first and the at least one second exposure radiation, and that the first exposure radiation is used for patterning a first functional layer and the at least one second exposure radiation is used for patterning at least one second functional layer on the top side of the carrier substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un corps multicouche. Le corps multicouche selon l'invention comprend au moins deux couches fonctionnelles sur une face supérieure d'un substrat de support, lesdites couches étant structurées l'une par rapport à l'autre. Une face inférieure du substrat de support est préparée de telle sorte qu'une traversée pour un premier rayonnement d'exposition dans une première zone et une traversée pour un deuxième rayonnement d'exposition différent du premier par rapport à la première zone dans au moins une deuxième zone ont pour résultat que la face arrière est exposée au premier et au(x) deuxième(s) rayonnements d'exposition l'un après l'autre et que le premier rayonnement d'exposition est utilisé pour la structuration d'une première couche fonctionnelle et que le(s) deuxième(s) rayonnement(s) d'exposition est utilisé pour la structuration d'au moins une deuxième couche fonctionnelle sur la surface supérieure du substrat de support.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)