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1. (WO2008006856) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PLASMAGESTÜTZTEN CHEMISCHEN GASPHASENABSCHEIDUNG AN DER INNENWAND EINES HOHLKÖRPERS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/006856    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2007/057117
Veröffentlichungsdatum: 17.01.2008 Internationales Anmeldedatum: 11.07.2007
IPC:
C23C 16/04 (2006.01)
Anmelder: STEIN, Ralf [DE/DE]; (DE) (For All Designated States Except US).
NÖLL, Oliver [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: NÖLL, Oliver; (DE)
Vertreter: MICHALSKI, Stefan; Michalski Hüttermann Patentanwälte GBR, Zusammenschluss-Nr. 289, Neuer Zollhof 2, 40221 Düsseldorf (DE)
Prioritätsdaten:
10 2006 032 568.0 12.07.2006 DE
Titel (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PLASMAGESTÜTZTEN CHEMISCHEN GASPHASENABSCHEIDUNG AN DER INNENWAND EINES HOHLKÖRPERS
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PLASMA-ASSISTED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION ON THE INNER WALL OF A HOLLOW BODY
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE SÉPARATION CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE ASSISTÉE PAR PLASMA SUR LA PAROI INTÉRIEURE D'UN CORPS CREUX
Zusammenfassung: front page image
(DE)Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung zur Beschichtung bzw. Materialabtragung an der Innenwand eines Hohlkörpers (42). Dabei wird eine Gaslanze (44) in den Hohlkörper (42) eingeführt und ein Hohlraumplasma (45) unter Ausbildung einer an der Spitze der Gaslanze angeordneten Plasmawolke durch Anlegen eines elektrischen Hochfrequenzfeldes an einer HF-Elektrode (41) ausgebildet.
(EN)The invention relates to a method for plasma-assisted chemical vapour deposition for coating, or removing material from, the inner wall of a hollow body (42). A gas lance (44) is introduced into the hollow body (42), and a cavity plasma (45) is formed by applying an electrical high-frequency field to a high-frequency electrode (41), forming a plasma cloud arranged on the tip of the gas lance.
(FR)La présente invention concerne un procédé de séparation chimique en phase gazeuse assistée par plasma permettant le revêtement ou l'enlèvement de matière sur la paroi intérieure d'un corps creux (42). Selon l'invention, une lance à gaz (44) est introduite dans le corps creux (42) et un plasma de corps creux (45) est formé par application d'un champ électrique haute fréquence à une électrode HF (41), par formation d'un nuage de plasma au niveau de la pointe de la lance à gaz.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)