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1. (WO2008006735) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HALOGENE ENTHALTENDEN ORGANISCHEN PHOSPHORVERBINDUNGEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/006735    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2007/056685
Veröffentlichungsdatum: 17.01.2008 Internationales Anmeldedatum: 03.07.2007
IPC:
C07F 9/48 (2006.01)
Anmelder: BASF SE [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE) (For All Designated States Except US).
BAUMANN, Robert [DE/DE]; (DE) (For US Only).
AECHTNER, Tobias [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SIEGEL, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LUYKEN, Hermann [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PFAB, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHEIDEL, Jens [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LEITNER, Andreas [AT/DE]; (DE) (For US Only).
GLASS, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: BAUMANN, Robert; (DE).
AECHTNER, Tobias; (DE).
SIEGEL, Wolfgang; (DE).
LUYKEN, Hermann; (DE).
PFAB, Peter; (DE).
SCHEIDEL, Jens; (DE).
LEITNER, Andreas; (DE).
GLASS, Andreas; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
BASF SE; 67056 Ludwigshafen (DE)
Prioritätsdaten:
06117037.9 12.07.2006 EP
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HALOGENE ENTHALTENDEN ORGANISCHEN PHOSPHORVERBINDUNGEN
(EN) METHOD FOR PRODUCING ORGANIC PHOSPHOROUS COMPOUNDS CONTAINING HALOGENE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉS PHOSPHORE ORGANIQUES HALOGÉNÉS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel XPR2(OR1) (Ia), wobei X Chlor, Brom oder Jod und R1 einen organischen Rest bedeutet, durch Umsetzung von Verbindungen der allgemeinen Formel X2PR2 (II), in der X die obengenannte Bedeutung besitzt und R2 einen organischen Rest bedeutet, mit Verbindungen der allgemeinen Formel R1OH (III), in der R1 die obengenannte Bedeutung besitzt, zu einer Mischung IV, indem man a) die Nachreaktion bei einer Temperatur von 50 bis 240°C und einem Druck von 0,001 bis 0,9 bar durchführt, b) aus der Mischung IV die Verbindungen Ia von den Verbindungen PR2(OR1)2 (Ib) und gegebenenfalls den Verbindungen II abtrennt und c) Verbindungen Ib und gegebenenfalls unumgesetzte Verbindungen II in die Synthesestufe zurückführt.
(EN)The invention relates to a method for producing compounds of general formula XPR2(OR1) (Ia), wherein X represents chlorine, bromine or iodine and R1 represents an organic radical, by reacting compounds of general formula X2PR2 (II), wherein X has the above-mentioned meaning and R2 represents an organic radical, with compounds of general formula R1OH (III), wherein R1 has the above-mentioned meaning, to form a mixture IV, wherein a) the secondary reaction is carried out at a temperature of between 50 to 240°C and at a pressure of 0,001 to 0,9 bar, b) from the mixture IV, the compounds (Ia) are separated from the compounds PR2(OR1)2 (Ib) and optionally from the compounds II and c) compounds (Ib) and optionally non-reacted compounds II are guided back to the synthesis step.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de composés de la formule générale XPR2(OR1) (Ia), dans laquelle X représente du chlore, brome ou iode et R1 représente un groupe organique, ledit procédé consistant à faire réagir les composés de la formule générale X2PR2 (II), dans laquelle X a la définition susmentionnée et R2 représente un groupe organique, avec les composés de la formule générale R1OH (III), dans laquelle R1 a la définition susmentionnée, pour obtenir un mélange IV. Pour ce faire, on procède à a) la réaction ultérieure à une température de 50 à 240°C et à une pression de 0,001 à 0,9 bar, b), à partir du mélange IV, à la séparation des composés Ia des composés PR2(OR1)2 (Ib) et éventuellement des composés II et c) au renvoi des composés Ib et éventuellement des composés II non convertis à l'étape de synthèse.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)