WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2008003443) FLUORTENSIDE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2008/003443    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2007/005838
Veröffentlichungsdatum: 10.01.2008 Internationales Anmeldedatum: 02.07.2007
IPC:
B01F 17/00 (2006.01)
Anmelder: MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Strasse 250, 64293 Darmstadt (DE) (For All Designated States Except US).
HIERSE, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
IGNATYEV, Nikolai (Mykola) [UA/DE]; (DE) (For US Only).
SEIDEL, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MONTENEGRO, Elvira [ES/DE]; (DE) (For US Only).
KIRSCH, Peer [DE/JP]; (JP) (For US Only).
BATHE, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: HIERSE, Wolfgang; (DE).
IGNATYEV, Nikolai (Mykola); (DE).
SEIDEL, Martin; (DE).
MONTENEGRO, Elvira; (DE).
KIRSCH, Peer; (JP).
BATHE, Andreas; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
MERCK PATENT GMBH; Frankfurter Strasse 250, 64293 Darmstadt (DE)
Prioritätsdaten:
10 2006 031 262.7 04.07.2006 DE
Titel (DE) FLUORTENSIDE
(EN) FLUOROSURFACTANTS
(FR) TENSIOACTIFS FLUORÉS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist die Verwendung von Endgruppen Y, wobei Y steht für (Formel I), wobei Rf steht für CF3-(CH2)r-, CF3-(CH2)r-O-, CF3-(CH2)r-S-, CF3CF2-S-, SF5- (CH2)r-, [CF3-(CH2)r]2N-, [CF3-(CH2)r]NH- oder (CF3)2N-(CH2)r-, B steht für eine Einfachbindung, O, NH, NR, CH2, C(O)-O, C(O), S, CH2-O, O-C(O), N-C(O), C(O)-N, O-C(O)-N, N-C(O)-N, O-SO2 oder SO2-O, R steht für Alkyl mit 1 bis 4 C-Atomen, b steht für 0 oder 1 und c steht für 0 oder 1, q steht für 0 oder 1, wobei mindestens ein Rest aus b und q für 1 steht, und r steht für 0, 1, 2, 3, 4 oder 5, als Endgruppe in oberflächenaktiven Verbindungen, entsprechende neue Verbindungen und Herstellverfahren für diese Verbindungen.
(EN)The invention relates to the use of Y terminal groups, wherein Y represents (formula I), Rf represents CF3-(CH2)r-, CF3-(CH2)r-O-, CF3-(CH2)r-S-, CF3CF2-S-, SF5- (CH2)r-, [CF3-(CH2)r]2N-, [CF3-(CH2)r]NH- or (CF3)2N-(CH2)r-, B represents a single bond, O, NH, NR, CH2, C(O)-O, C(O), S, CH2-O, O-C(O), N-C(O), C(O)-N, O-C(O)-N, N-C(O)-N, O-SO2 or SO2-O, R represents alkyl having 1 to 4 C-atoms, b represents 0 or 1 and c represents 0 or 1, q represents 0 or 1, at least one radical from b and q represents 1, and r represents 0, 1, 2, 3, 4 or 5, as a terminal group in the surface-active compounds. The invention also relates to corresponding compounds and to a method for producing said compounds.
(FR)L'invention concerne l'utilisation de groupes terminaux Y, Y représentant (formule I), où Rf désigne CF3-(CH2)r-, CF3-(CH2)r-O-, CF3-(CH2)r-S-, CF3CF2-S-, SF5- (CH2)r-, [CF3-(CH2)r]2N-, [CF3-(CH2)r]NH- ou (CF3)2N-(CH2)r-, B représente une liaison simple, O, NH, NR, CH2, C(O)-O, C(O), S, CH2-O, O-C(O), N-C(O), C(O)-N, 0-C(O)-N, N-C(O)-N, 0-SO2 ou SO2-O, R signifie alkyle doté de 1 à 4 atomes C, b désigne 0 ou 1 et C désigne 0 ou 1, q désigne 0 ou 1, au moins un groupe de b et q signifiant 1, et r représente O, 1, 2, 3, 4 ou 5, en tant que groupe terminal dans des composés tensioactifs. L'invention porte également sur des composés correspondants et sur des procédés de production associés de ces composés.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)