WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2007045571) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HOCHREINEN SI3N4-PULVERN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2007/045571    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2006/067183
Veröffentlichungsdatum: 26.04.2007 Internationales Anmeldedatum: 09.10.2006
IPC:
C01B 21/064 (2006.01), C01B 21/068 (2006.01)
Anmelder: WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE) (For All Designated States Except US).
SZILLAT, Holger [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SZILLAT, Holger; (DE)
Vertreter: POTTEN, Holger; Wacker Chemie AG, Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE)
Prioritätsdaten:
10 2005 050 364.0 20.10.2005 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HOCHREINEN SI3N4-PULVERN
(EN) METHOD FOR THE PRODUCTION OF HIGH-PURITY SI3N4 POWDERS
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE DES POUDRES SI3N4 TRES PURES
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft Si3N4-Pulver mit einer Summe an metallischen Verunreinigungen kleiner 10 ppm. und ein Verfahren zur Herstellung solches Pulver.
(EN)The invention relates to Si3N4 powders in which the sum of metallic impurities amounts to less than 10 ppm. Also disclosed is a method for producing such powders.
(FR)L'invention concerne une poudre de Si3N4 comprenant une somme d'impuretés métalliques inférieure à 10 ppm.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)