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1. WO2006048391 - MULTISTRAHLMODULATOR FÜR EINEN PARTIKELSTRAHL UND VERWENDUNG DES MULTISTRAHLMODULATORS ZUR MASKENLOSEN SUBSTRATSSTRUKTURIERUNG

Veröffentlichungsnummer WO/2006/048391
Veröffentlichungsdatum 11.05.2006
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2005/055521
Internationales Anmeldedatum 25.10.2005
IPC
H01J 37/317 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
30Elektronenstrahl- oder Ionenstrahlröhren für örtliche Behandlung von Gegenständen
317zum Ändern der Objekteigenschaften oder zum Aufbringen dünner Schichten auf die Objekte, z.B. Ionenimplantation
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
H01J 2237/0437
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
043Beam blanking
0435Multi-aperture
0437Semiconductor substrate
H01J 2237/31774
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
30Electron or ion beam tubes for processing objects
317Processing objects on a microscale
3175Lithography
31774Multi-beam
H01J 37/3177
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
3177Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
Anmelder
  • VISTEC ELECTRON BEAM GMBH [DE]/[DE] (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW)
  • DÖRING, Hans-Joachim [DE]/[DE] (UsOnly)
  • HEINITZ, Joachim [DE]/[DE] (UsOnly)
Erfinder
  • DÖRING, Hans-Joachim
  • HEINITZ, Joachim
Vertreter
  • OEHMKE & KOLLEGEN
Prioritätsdaten
10 2004 052 994.903.11.2004DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) MULTISTRAHLMODULATOR FÜR EINEN PARTIKELSTRAHL UND VERWENDUNG DES MULTISTRAHLMODULATORS ZUR MASKENLOSEN SUBSTRATSSTRUKTURIERUNG
(EN) MULTI-BEAM MODULATOR FOR A PARTICLE BEAM AND USE OF THE MULTI-BEAM MODULATOR FOR THE MASKLESS STRUCTURING OF A SUBSTRATE
(FR) MODULATEUR MULTIFAISCEAU POUR FAISCEAU DE PARTICULES ET UTILISATION DE CE MODULATEUR POUR TEXTURER UN SUBSTRAT SANS MASQUE
Zusammenfassung
(DE)
Es ist ein Multistrahlmodulator offenbart, der aus einem Partikelstrahl, mehrere Einzelstrahlen erzeugt. Der Partikelstrahl beleuchtet den Multistrahlmodulator zumindest teilweise flächig. Der Multistrahlmodulator umfasst mehrere Aperturgruppen zusammengesetzt aus Aperturzeilengruppen, wobei die Gesamtheit aller Aperturzeilen eine Matrix aus m x n Zellen aufspannt. Dabei bilden M Zellen eine Zeile und in jeder Zeile sind k Öffnungen ausgebildet. Die Dichte der Öffnungen ist innerhalb einer Zeile ungleichmäßig verteilt.
(EN)
The invention relates to a multi-beam modulator which produces a plurality of individual beams from one particle beam. The particle beam illuminates the multi-beam modulator in an at least partially sheet-like manner. The multi-beam modulator comprises several aperture groups which are made of aperture line groups. All of the aperture lines form a matrix from m x n cells. M cells also form a line and K openings are formed in each line. The density of the openings is distributed in a homogeneous manner within one line.
(FR)
L'invention concerne un modulateur multifaisceau qui génère plusieurs faisceaux individuels à partir d'un faisceau de particules. Ce faisceau de particules éclaire le modulateur multifaisceau au moins partiellement en nappe. Le modulateur multifaisceau selon l'invention comprend plusieurs groupes d'ouvertures constitués de groupes de lignes d'ouvertures, la totalité des lignes d'ouvertures formant une matrice de m x n cellules. M cellules forment ainsi une ligne et k ouvertures sont formées dans chaque ligne. La densité des ouvertures est répartie de façon inégale à l'intérieur d'une ligne.
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