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1. (WO2006027074) POLYEDRISCHE OLIGOMERE SILIZIUM-SAUERSTOFFCLUSTER MIT MINDESTENS EINER ALDEHYDGRUPPE UND EIN VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2006/027074    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2005/008621
Veröffentlichungsdatum: 16.03.2006 Internationales Anmeldedatum: 09.08.2005
IPC:
C07F 7/21 (2006.01)
Anmelder: DEGUSSA GMBH [DE/DE]; Bennigsenplatz 1, 40474 Düsseldorf (DE) (For All Designated States Except US).
KÜHNLE, Adolf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
JOST, Carsten [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ABBENHUIS, Hendrikus Cornelis Louis [NL/NL]; (NL) (For US Only).
GERRITSEN, Gijsbert [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Erfinder: KÜHNLE, Adolf; (DE).
JOST, Carsten; (DE).
ABBENHUIS, Hendrikus Cornelis Louis; (NL).
GERRITSEN, Gijsbert; (NL)
Allgemeiner
Vertreter:
DEGUSSA GMBH; Intellectual Property Management, Patente und Marken, Standort Hanau, Postfach 13 45, 63403 Hanau (DE)
Prioritätsdaten:
10 2004 042 815.8 03.09.2004 DE
Titel (DE) POLYEDRISCHE OLIGOMERE SILIZIUM-SAUERSTOFFCLUSTER MIT MINDESTENS EINER ALDEHYDGRUPPE UND EIN VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
(EN) POLYEDRIC OLIGOMERIC SILICON/OXYGEN CLUSTER WITH AT LEAST ONE ALDEHYDE GROUP AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) ENSEMBLES SILICIUM-OXYGENE OLIGOMERES POLYEDRIQUES COMPRENANT AU MOINS UN GROUPE ALDEHYDE ET PROCEDE POUR LES PRODUIRE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft polyedrischen oligomeren Silizium-Sauerstoffcluster, die sich dadurch auszeichnen, dass sie eine Struktur gemäß der Formel: [(RaXbArSiO1,5)m (RcXdAsSiO)n (ReXfAtSi2O2,5)o (RgXhAuSi2O2)p] mit: a, b, c, r = 0-1; d, s = 0-2; e, g, f, t = 0-3; h, u = 0-4; m+n+o+p = 4-14; a+b+r = 1; c+d+s = 2; e+f+t = 3 und g+h+u = 4; r+s+t+u ≥ 1 R = Wasserstoffatom, Alkyl-, Cycloalkyl-, Alkinyl-, Cycloalkinyl-, Aryl-, Heteroarylgruppe oder Polymereinheit, die jeweils substituiert oder unsubstituiert sind, Alkenyl- oder Cycloalkenyl-Gruppe, die direkt an der Doppelbindung keine Wasserstoffatome aufweisen, oder weitere funktionalisierte polyedrische oligomere Silizium-Sauerstoffclustereinheiten, die über eine Polymereinheit oder eine Brückeneinheit angebunden sind, X = Oxy-, Hydroxy-, Alkoxy-, Carboxy-, Silyl-, Alkylsilyl-, Alkoxysilyl-, Siloxy-, Alkylsiloxy-, Alkoxysiloxy-, Silylalkyl-, Alkoxysilylalkyl-, Alkylsilylalkyl-, Halogen-, Epoxy-, Ester-, Fluoralkyl-, Isocyanat-, blockierte Isocyanat-, Acrylat-, Methacrylat-, Mercapto-, Nitril-, Amino-, Phosphingruppe oder mindestens eine solche Gruppe vom Typ X aufweisenden Substituenten vom Typ R, A = Substituent mit mindestens einer Aldehydgruppe, wobei sowohl die Substituenten vom Typ R und Typ A als auch vom Typ X gleich oder unterschiedlich sind, aufweisen und mindestens ein, vorzugsweise ein Substituent vom Typ A aufweisen, sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung.
(EN)The invention relates to polyedric oligomeric silicon/oxygen clusters characterised by a structure of formula: [(RaXbArSiO1,5)m (RcXdAsSiO)n (ReXfAtSi2O2,5)o (RgXhAuSi2O2)p] where a, b, c and r = 0-1, d and s = 0-2, e, g, f, and t = 0-3, h and u = 0-4, m+n+o+p = 4-14, a+b+r = 1, c+d+s = 2, e+f+t = 3, g+h+u = 4, r+s+t+u = 1, R = H, alkyl, cycloalkyl, alkinyl, cycloalkinyl, aryl, heteroaryl, or a polymeric group, which is substituted or unsubstituted, an alkenyl or cycloalkenyl group with no hydrogen atoms directly on the double bond, or further functionalised polyedric, oligomeric silicon/oxygen cluster units bonded by means of a polymeric unit or a bridging unit, X = oxy, hydroxy, alkoxy, carboxy, silyl, alkylsilyl, alkoxysilyl, siloxy, alkylsiloxy, alkoxysiloxy, silylalkyl, alkoxysilylalkyl, alkylsilylalkyl, halogen, epoxy, ester, fluoroalkyl, isocyanate, protected isocyanate, acrylate, methacrylate, mercapto, nitrile, amino, phosphine group or at least one such group from the substituents of type R comprising type X, A = a substituent with at least one aldehyde group, whereby substituents of type R, type A and also type X are the same or different and comprising at least one substituent, preferably of type A and method for production thereof.
(FR)La présente invention concerne des ensembles silicium-oxygène oligomères polyédriques qui sont caractérisés en ce qu'ils présentent une structure de formule : [(RaXbArSiO1,5)m (RcXdAsSiO)n (ReXfAtSi2O2,5)o (RgXhAuSi2O2)p] avec: a, b, c, r = 0-1; d, s = 0-2; e, g, f, t = 0-3; h, u = 0-4; m+n+o+p = 4-14; a+b+r = 1; c+d+s = 2; e+f+t = 3 et g+h+u = 4; r+s+t+u = 1 R = atome d'hydrogène, groupe alkyle, cycloalkyle, alcinyle, cycloalcinyle, aryle ou hétéroaryle ou une unité polymère qui sont respectivement substitués ou non substitués, des groupes alcényle ou cycloalcényle qui ne présentent aucun atome d'hydrogène directement sur la double liaison, ou d'autres unités d'ensemble silicium-oxygène oligomères polyédriques fonctionnalisés qui sont reliées par une unité polymère ou par une unité de pontage, X = un groupe oxy, hydroxy, alkoxy, carboxy, silyle, alkylsilyle, alkoxysilyle, siloxy, alkylsiloxy, alkoxysiloxy, silylalkyle, alkoxysilylalkyle, alkylsilylalkyle, halogène, époxy, ester, fluoroalkyle, isocyanate, isocyanate bloqué, acrylate, méthacrylate, mercapto, nitrile, amino, phosphine ou au moins des substituants de type R qui présentent un tel groupe de type X, A = un substituant avec au moins un groupe aldéhyde, à la fois les substituants de type R, ceux de type A et ceux de type X étant identiques ou différents, ainsi que de préférence un substituant de type A. La présente invention concerne également un procédé pour produire ces composés.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)