WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Optionen
Recherchensprache
Trunkierung
Ordnen nach:
Listenlänge
Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2006021540) OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2006/021540 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2005/054070
Veröffentlichungsdatum: 02.03.2006 Internationales Anmeldedatum: 18.08.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 5/18 (2006.01) ,G02B 27/00 (2006.01) ,G02B 27/44 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
5
Optische Elemente außer Linsen
18
Beugungsgitter
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
27
Andere optische Systeme; andere optische Geräte
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
27
Andere optische Systeme; andere optische Geräte
42
Beugungsoptik
44
Gittersysteme; Zonenplattensysteme
Anmelder: KRÄHMER, Daniel[DE/DE]; DE (UsOnly)
TOTZECK, Michael[DE/DE]; DE (UsOnly)
KLEEMANN, Bernd[DE/DE]; DE (UsOnly)
RUOFF, Johannes[DE/DE]; DE (UsOnly)
CARL ZEISS AG[DE/DE]; Carl-Zeiss-Str. 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
CARL ZEISS SMT AG[DE/DE]; Carl-Zeiss-Str. 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
Erfinder: KRÄHMER, Daniel; DE
TOTZECK, Michael; DE
KLEEMANN, Bernd; DE
RUOFF, Johannes; DE
Vertreter: SCHULTZ, Joerg; c/o Carl Zeiss AG Patentabteilung (Postfachadresse) 73446 Oberkochen, DE
Prioritätsdaten:
102004040535.220.08.2004DE
Titel (EN) OPTICAL SYSTEM, I.E. LENS OR ILLUMINATION DEVICE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTEME OPTIQUE, PRECISEMENT OBJECTIF OU DISPOSITIF D'ECLAIRAGE D'UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
(DE) OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an illumination device or a projection lens of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising at least one diffractive optical element that is provided with a plurality of blaze structures to obtain a blaze effect. Each of said blaze structures encompasses several individual substructures that create a blaze effect and are disposed next to each other in the direction of extension of the respective blaze structure according to a predetermined period. From a top view, said individual substructures have the shape of a closed geometrical area whose size that runs parallel to the direction of extension varies perpendicular to the direction of extension but is always smaller than the wavelength of the electromagnetic radiation while the maximum size thereof perpendicular to the direction of extension is greater than the wavelength of the electromagnetic radiation.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'éclairage ou un objectif de projection d'une installation d'exposition par projection microlithographique. Ce dispositif ou cet objectif comprend au moins un élément optique diffracteur présentant une pluralité de structures de blaze pour produire un effet de blaze, ces structures comprenant chacune plusieurs sous-structures individuelles gérant un effet de blaze et disposées les unes à côtés des autres dans le sens d'extension de la structure de blaze respective conformément à une période prédéterminée. Vues de dessus, lesdites sous-structures individuelles présentent chacune la forme d'une surface géométrique fermée dont la dimension parallèle au sens d'extension varie perpendiculairement au sens d'extension, sans dépasser la longueur d'onde du rayonnement électromagnétique, et dont la dimension maximale perpendiculairement au sens d'extension est supérieure à la longueur d'onde du rayonnement électromagnétique.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)