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1. WO2006021205 - VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER FORM EINER OBERFLÄCHENTOPOLOGIE EINES MESSOBJEKTES

Veröffentlichungsnummer WO/2006/021205
Veröffentlichungsdatum 02.03.2006
Internationales Aktenzeichen PCT/DE2005/001509
Internationales Anmeldedatum 25.08.2005
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen 22.06.2006
IPC
G01B 11/30 2006.01
GPhysik
01Messen; Prüfen
BMessen der Länge, der Dicke oder ähnlicher linearer Abmessungen; Messen von Winkeln; Messen von Flächen; Messen von Unregelmäßigkeiten an Oberflächen oder Umrissen
11Messanordnungen gekennzeichnet durch die Verwendung optischer Messmittel
30zum Messen der Rauheit oder der Unregelmäßigkeit von Oberflächen
G01B 11/24 2006.01
GPhysik
01Messen; Prüfen
BMessen der Länge, der Dicke oder ähnlicher linearer Abmessungen; Messen von Winkeln; Messen von Flächen; Messen von Unregelmäßigkeiten an Oberflächen oder Umrissen
11Messanordnungen gekennzeichnet durch die Verwendung optischer Messmittel
24zum Messen von Umrisslinien oder Krümmungen
CPC
G01B 11/2441
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
24for measuring contours or curvatures
2441using interferometry
Anmelder
  • SENTECH INSTRUMENTS GMBH [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • WIELSCH, Uwe [DE]/[DE] (UsOnly)
  • KRÜGER, Albrecht [DE]/[DE] (UsOnly)
  • WITEK, Helmut [DE]/[DE] (UsOnly)
  • DITTMAR, Georg [DE]/[DE] (UsOnly)
  • RICHTER, Uwe [DE]/[DE] (UsOnly)
  • SANDNER, Thilo [DE]/[DE] (UsOnly)
  • GAO, Sai [DE]/[DE] (UsOnly)
  • SCHREIBER, Jürgen [DE]/[DE] (UsOnly)
Erfinder
  • WIELSCH, Uwe
  • KRÜGER, Albrecht
  • WITEK, Helmut
  • DITTMAR, Georg
  • RICHTER, Uwe
  • SANDNER, Thilo
  • GAO, Sai
  • SCHREIBER, Jürgen
Vertreter
  • MAIKOWSKI & NINNEMANN
Prioritätsdaten
10 2004 041 292.825.08.2004DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER FORM EINER OBERFLÄCHENTOPOLOGIE EINES MESSOBJEKTES
(EN) DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING THE FORM OF A SURFACE TOPOLOGY OF AN OBJECT TO BE MEASURED
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE DETERMINATION DE LA FORME D'UNE TOPOLOGIE DE SURFACE D'UN OBJET A MESURER
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Bestimmung der Form einer dreidimensionalen und / oder zweidimensionalen Oberflächentopographie eines Messobjektes, gekennzeichnet durch a) mindestens eine Strahlungsquelle (1) für elektromagnetische Strahlung, b) mindestens einen Strahlteiler (2), insbesondere einen polarisationsabhängigen Strahlteiler (2), zur Trennung der elektromagnetischen Strahlung in mindestens einen Referenzstrahl (3) und mindestens einen Messstrahl (4, 41, 42, 43), wobei c) ein erster Abschnitt des mindestens einen Messstrahls (41) vom Strahlteiler (2) auf mindestens ein analog steuerbares Mikrospiegelarray (5) führbar ist, von dem ein zweiter Abschnitt des mindestens einen Messstrahls (42) auf die Oberfläche des Messobjektes (10) reflektierbar ist oder ein erster Abschnitt des mindestens einen Messstrahls (41) vom Strahlteiler (2) auf das Messobjekt (10) führbar ist, von dem ein zweiter Abschnitt des mindestens einen Messstrahls (42) auf das mindestens eine analog steuerbare Mikrospiegelarray (5) reflektierbar ist, d) ein dritter Abschnitt des mindestens einen Messstrahls (43) vom mindestens einen analog steuerbaren Mikrospiegelarray (5) oder vom Messobjekt (10) in Richtung mindestens eines Detektors (6), insbesondere eine Kamera und / oder ein Einzeldetektor, lenkbar ist, e) und der mindestens eine Detektor (6) zeitlich und / oder örtlich aufgelöste Muster des dritten Teils des mindestens einen Messstrahls (43) empfängt, die in Abhängigkeit von der Ansteuerung des mindestens einen analog steuerbaren Mikrospiegelarrays (5) auswertbar sind.
(EN)
The invention relates to a device and a method for determining the form of a three-dimensional and/or two-dimensional surface topography of an object to be measured, characterised by a) at least one radiation source (1) for electromagnetic radiation; b) at least one beam splitter (2), especially a polarisation-dependent beam-splitter (2), for separating the electromagnetic radiation into at least one reference beam (3) and at least one measuring beam (4, 41, 42, 43); c) the fact that a first section of the at least one measuring beam (41) can be guided from the beam splitter (2) to at least one analogously controllable micromirror array (5) off which a second section of the at least one measuring beam (42) can be reflected onto the surface of the object to be measured (10), or a first section of the at least one measuring beam (41) can be guided from the beam splitter (2) to the object to be measured (10) off which a second section of the at least one measuring beam (42) can be reflected onto the at least one analogously controllable micromirror array (5); d) a third section of the at least one measuring beam (43) can be oriented from at least one analogously controllable micromirror array (5) or from the object to be measured (10) towards at least one detector (6), especially a camera and/or an individual detector; and e) the at least one detector (6) receives temporally and/or locally resolved patterns of the third part of the at least one measuring beam (43), that can be evaluated according to the control of the at least one analogously controllable micromirror array (5).
(FR)
L'invention concerne un dispositif et un procédé de détermination de la forme d'une topographie de surface tri- et/ou bi-dimensionnelle d'un objet à mesurer, dispositif caractérisé en ce qu'il comprend a) au moins une source de rayonnement (1) pour un rayonnement électromagnétique, b) au moins un séparateur de faisceau (2), en particulier un séparateur de faisceau dépendant de la polarisation, pour la séparation du rayonnement électromagnétique en au moins un faisceau de référence (3) et en au moins un faisceau de mesure (4, 41, 42, 43), et en ce qu'une première section d'au moins un faisceau de mesure (41) peut être guidée, à partir du séparateur de faisceau (2) vers au moins un réseau de micro-miroirs (5) pouvant être commandé de façon analogique, à partir duquel une seconde section d'au moins un faisceau de mesure (42) peut être réfléchie sur la surface de l'objet à mesurer (10), ou une première section d'au moins un faisceau de mesure (41) peut être guidée, à partir du séparateur de faisceau (2) vers l'objet à mesurer (10), à partir duquel une seconde section d'au moins un faisceau de mesure (42) peut être réfléchie sur au moins un réseau de micro-miroirs (5) pouvant être commandé de façon analogique, d) en ce qu'un troisième section d'au moins un faisceau de mesure (43) peut être orientée par au moins un réseau de micro-miroirs pouvant être commandé de manière analogique (5) ou par l'objet à mesurer (10), en direction d'au moins un détecteur (6), en particulier une caméra et/ou un détecteur individuel, et e) en ce qu'au moins un détecteur (6) reçoit temporairement et/ou localement un modèle résolu de la troisième section d'au moins un faisceau de mesure (43) qui peut être évalué conformément au contrôle d'au moins un réseau de micro-miroirs (5) pouvant être commandé de manière analogique.
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