In Bearbeitung

Bitte warten ...

Einstellungen

Einstellungen

Gehe zu Anmeldung

1. WO2006010474 - VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON 3-PHENYL(THIO)URACILEN UND - DITHIOURACILEN

Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

[ DE ]

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I


worin die Variablen die folgenden Bedeutungen haben:
R1 Wasserstoff, C1-C6-AIkVl, d-C4-Cyanoalkyl, CrC6-Halogenalkyl, C3-C8- Cycloalkyl, C2-C6-Al kenyl, C2-C6-Halogenalkenyl, C3-C6-Alkinyl, C3-C6- Halogenalkinyl, Phenyl-CrC4-alkyl oder Amino;

R2 und R3 unabhängig voneinander
Wasserstoff, C1-C6-AIlCyI1 CrC6-Halogenalkyl, C3-C8-Cycloalkyl, C2-C6- Alkenyl, C2-C6-Halogenalkenyl, C3-C6-Alkinyl oder C3-C6-Halogenalkinyl;

X1, X2 und X3 unabhängig voneinander
Sauerstoff oder Schwefel;

Ar Phenyl, das partiell oder vollständig halogeniert sein kann und/oder ein bis drei Reste aus der Gruppe Cyano, CrC4-Alkyl oder CrC4-Halogenalkyl
tragen kann, und

A ein von einem primären oder sekundären Amin abgeleiteter Rest oder NH2;

dadurch gekennzeichnet, dass Carbamate der Formel Il



wobei die Variablen X1, X3, Ar und A die zuvor genannten Bedeutungen haben und L1 für eine nucleophil verdrängbare Abgangsgruppe steht,

mit Enaminen der Formel III

wobei die Variablen X2, R1, R2 und R3 die zuvor genannten Bedeutungen haben und L2 für eine nucleophil verdrängbare Abgangsgruppe steht,
umgesetzt werden.

2. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I gemäß Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass R1 für Wasserstoff oder C1-C4-AIkVl steht.

3. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I gemäß Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass R2 für
Wasserstoff, CrC4-Alkyl oder d-C4-Halogenalkyl steht.

4. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I gemäß Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass R3 für Wasserstoff oder CrC4-AlkyI steht.

5. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I gemäß Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass X1, X2 und X3 für Sauerstoff stehen.

6. Verfahren gemäß Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass Ar für eine Gruppe der allgemeinen Formel Ar-1



steht, wobei
* die Verknüpfung von Ar mit der C(X3)-Gruppe;
** die Verknüpfung von Ar mit dem direkt benachbarten Stickstoffatom kennzeichnet; und
Ra, Rb, RG und Rd unabhängig voneinander
Wasserstoff, Halogen, Cyano oder CrC4-Halogenaikyl;
bedeuten.

7. Verfahren gemäß Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass A für eine Gruppe -NR4R5 steht, wobei die Substituenten R4 und R5 unabhängig voneinander Wasserstoff oder C1-C6-AIkVl, das seinerseits durch einen Substituenten ausgewählt aus der Gruppe
Halogen, Cyano, C3-C8-Cycloalkyl, C1-C4-AIkOXy, CrC4-Alkylthio, C1-C4- Alkoxycarbonyl, Phenyl, das seinerseits ein bis drei Reste aus der Gruppe Halogen oder CrC4-Alkoxy tragen kann, Furyl, Thienyl und 1 ,3-Dioxolanyl substituiert sein kann,
bedeuten.

8. Verfahren zur Herstellung von 3-PhenyI(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I gemäß Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Carba- mate der Formel Il durch Umsetzung von Aminen der Formel IV



wobei X3, Ar und A die unter Anspruch 1 genannten Bedeutungen haben,

mit Verbindungen der Formel V



wobei X1 und L1 die unter Anspruch 1 genannten Bedeutungen haben und
L3 für eine nucleophil verdrängbare Abgangsgruppe steht, hergestellt werden.

9. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der
Formel I gemäß Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Carba- mate der Formel Il in einem Zwischenschritt mit einem Halogenierungsmittel am Rest Ar halogeniert werden.

10. Carbamate der Formel Il



wobei X1, X3, Ar, A und L1 die unter Anspruch 1 genannten Bedeutungen haben.

11. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der Formel I

worin R1 die folgenden Bedeutungen hat:
R1 CrCe-Alkyl, CrC^Cyanoalkyl, d-Ce-Halogenalkyl, C3-C8-Cycloalkyl, C2- C6-Alkenyl, C2-C6-Halogenalkenyl, C3-C6-Al kinyl, C3-C6-Haogenalkinyl,
Phenyl-CrC4-alkyl oder Amino;

und die Variablen R2, R3, X1, X2, X3, Ar und A die in Ansprüchen 1 bis 7 genannten Bedeutungen haben,

dadurch gekennzeichnet, dass Carbamate der Formel Il



wobei die Variablen X1, X3, Ar und A die zuvor genannten Bedeutungen haben und L1 für eine nucleophii verdrängbare Abgangsgruppe steht,

mit Enaminen der Formel IN


wobei R1 für Wasserstoff steht, die Variablen X2, R2 und R3 die zuvor genannten Bedeutungen haben und L2 für eine nucleophii verdrängbare Abgangsgruppe steht,

umgesetzt werden; und das entstandene 3-Phenyi(thio)uracil und -dithioracil der Formel I, wobei R1 für Wasserstoff steht, anschließend

- mit einem Alkylierungsmittel der Formel VI

R1— L4 VI, worin R1 C1-C6-AIRyI, d-C4-Cyanoalkyl, CrC6-Halogenalkyl, C3-C8-Cycloalkyl, C2-C6-Al kenyl, C2-C6-Halogenalkenyl, C3-C6-Al kinyl, C3-C6- Halogenalkinyl oder Phenyl-d-C4-alkyl; und
L4 eine nucleophil verdrängbare Abgangsgruppe; bedeutet
zu 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithioracilen der Formel I
worin R1 für Ci-C6-Alkyl, CrC4-Cyanoalkyl, CrC6-Halogenalkyl, C3-C8- Cycloalkyl, C2-C6-Alkenyl, C2-C6-Halogenalkenyl, C3-C6-Alkinyl, C3-C6- Halogenalkinyl oder Phenyl-Ci-C4-alkyl, alkyliert;

oder

- mit einem Aminierungsmittel der Formel VII

H2N-L5 VII,
worin L5 für eine nucleophil verdrängbare Abgangsgruppe steht,
zu 3-Phenyl(thio)uraciIen und -dithioracilen der Formel I, worin R1 für NH2 steht, aminiert.

12. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der Formel I gemäß Anspruch 11 , wobei R1 für CrC6-AlkyI oder Amino steht.

13. Verfahren zur Herstellung von 3-Phenyl(thio)uracilen und -dithiouracilen der Formel I gemäß Anspruch 11 , wobei R1 für CrC6-Alkyl steht.