WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2006002859) BELEUCHTUNGSQUELLE, WELLENFRONTVERMESSUNGSVORRICHTUNG UND MIKROLITHOGRAFIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2006/002859    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2005/006918
Veröffentlichungsdatum: 12.01.2006 Internationales Anmeldedatum: 28.06.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
DAHL, Manfred [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GOEPPERT, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HAIDNER, Helmut [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MENGEL, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KAUFMANN, Paul [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHUHMACHER, Dagmar [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WEGMANN, Ulrich [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: DAHL, Manfred; (DE).
GOEPPERT, Markus; (DE).
HAIDNER, Helmut; (DE).
MENGEL, Markus; (DE).
KAUFMANN, Paul; (DE).
SCHUHMACHER, Dagmar; (DE).
WEGMANN, Ulrich; (DE)
Vertreter: RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30, 70174 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
60/584,125 01.07.2004 US
Titel (DE) BELEUCHTUNGSQUELLE, WELLENFRONTVERMESSUNGSVORRICHTUNG UND MIKROLITHOGRAFIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) ILLUMINATION SOURCE, WAVEFRONT MEASURING DEVICE AND MICROLITHOGRAPHY PROJECTION ILLUMINATION DEVICE
(FR) SOURCE D'ECLAIRAGE, DISPOSITIF DE MESURE DE FRONT D'ONDE, ET INSTALLATION D'ECLAIRAGE PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsquelle zur Bereitstellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, und auf eine damit ausgerüstete Wellenfrontvermessungsvorrichtung und auf eine entsprechende Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage. Die Erfindung schlägt eine Beleuchtungsquelle mit einer Teilchenstrahlquelle (11), einer Beleuchtungsmaske (4c), die mit einem strukturierten oder unstrukturierten Targetmaterial (8c) belegt ist, das bei Beschuss durch einen von der Teilchenstrahlquelle emittierten Teilchenstrahl (13) die Beleuchtungsstrahlung (a) emittiert. Verwendung z.B. zur Wellenfrontvermessung optischer Abbildungssysteme von Mikrolithografiesystemen, die im EUV-Wellenlängenbereich arbeiten, bei deren Betriebswellenlänge.
(EN)The invention relates to an illumination source for providing three-dimensionally structured illumination radiation, in particular in the EUV wavelength range, to a wavefront measuring device, which is provided with an illumination source of this type and to a projection illumination system for microlithography. The inventive illumination source comprises: a particle radiation source (11), an illumination mask (4c), which is covered by a structured or unstructured target material (8c) that emits the illumination radiation a) when bombarded with a particle beam (13) emitted by the particle radiation source. The invention can be used e.g. for the wavefront measurement of optical reproduction systems of microlithography systems, whose operating wavelength lies in the EUV wavelength range.
(FR)L'invention concerne une source d'éclairage destinée à fournir un rayonnement d'éclairage structuré dans l'espace, en particulier dans la gamme de longueurs d'onde EUV. Cette invention se rapporte également à un dispositif de mesure de front d'onde comportant cette source d'éclairage, et à une installation d'éclairage par projection microlithographique correspondante. La source d'éclairage selon l'invention comprend : une source de rayonnement de particules (11), et ; un masque d'éclairage (4c) recouvert d'un matériau cible structuré ou non structuré (8c) qui émet le rayonnement d'éclairage (a) lorsqu'il est bombardé par un faisceau de particules (13) émis par la source de rayonnement de particules. Cette invention est utilisée pour mesurer le front d'onde de systèmes de formation d'image optique de systèmes microlithographiques dont les longueurs d'onde de travail figurent notamment dans la gamme de longueurs d'onde EUV.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)