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1. (WO2005100242) MIKROPORÖSES GERÜSTSILIKAT UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2005/100242    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2005/003891
Veröffentlichungsdatum: 27.10.2005 Internationales Anmeldedatum: 13.04.2005
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    29.08.2005    
IPC:
B01D 53/02 (2006.01), B01J 29/04 (2006.01), C01B 33/20 (2006.01), C01B 37/00 (2006.01), C01B 39/02 (2006.01), C01B 39/04 (2006.01), C04B 35/16 (2006.01)
Anmelder: BASF AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; . 67056 Ludwigshafen (DE) (For All Designated States Except US).
RUBITEC- GESELLSCHAFT FÜR INNOVATION UND TECHNOLOGIE DER RUHR-UNIVERSITÄT BOCHUM MBH [DE/DE]; Universitätsstrasse 150 44801 Bochum (DE) (For All Designated States Except US).
MÜLLER, Ulrich [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LIPPERT, Gerald [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BROWN, James, Reuben [NZ/DE]; (DE) (For US Only).
GIES, Hermann [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MARLER, Bernd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STRÖTER, Nadine [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANG, Yingxia [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Erfinder: MÜLLER, Ulrich; (DE).
LIPPERT, Gerald; (DE).
BROWN, James, Reuben; (DE).
GIES, Hermann; (DE).
MARLER, Bernd; (DE).
STRÖTER, Nadine; (DE).
WANG, Yingxia; (CN)
Prioritätsdaten:
10 2004 017 915.8 13.04.2004 DE
Titel (DE) MIKROPORÖSES GERÜSTSILIKAT UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
(EN) MICROPOROUS TECTOSILICATE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
(FR) TECTOSILICATE MICROPOREUX ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Gerüstsilikat mit einem Röntgenbeugungsmuster, in dem mindestens die folgenden Reflexe auftreten: wobei sich die Angabe 100 % auf die Intensität des höchsten Peaks im Röntgendiffraktogramm bezieht.
(EN)The invention relates to a tectosilicate having an X-ray diffraction pattern in which at least the following reflexes occur: (table I), 100 percent referring to the intensity of the highest peak in the X-ray diffractogram.
(FR)L'invention concerne un tectosilicate à modèle de diffraction aux rayons X, dans lequel se présentent au moins les réflexions figurant dans le tableau (I), où l'indication 100 % se rapporte à l'intensité du pic maximum dans le diffractogrammes aux rayons X.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)