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1. (WO2005093127) VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN VON INSBESONDERE METALLOXIDEN MITTELS NICHT KONTINUIERLICHER PRECURSORINJEKTION
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2005/093127    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2005/051050
Veröffentlichungsdatum: 06.10.2005 Internationales Anmeldedatum: 09.03.2005
IPC:
C23C 16/448 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Anmelder: AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17, 52072 Aachen (DE) (For All Designated States Except US).
BAUMANN, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHUMACHER, Marcus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LINDNER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: BAUMANN, Peter; (DE).
SCHUMACHER, Marcus; (DE).
LINDNER, Johannes; (DE)
Vertreter: GRUNDMANN, Dirk; Rieder & Partner, Corneliusstrasse 45, 42329 Wuppertal (DE)
Prioritätsdaten:
10 2004 015 174.1 27.03.2004 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN VON INSBESONDERE METALLOXIDEN MITTELS NICHT KONTINUIERLICHER PRECURSORINJEKTION
(EN) METHOD FOR THE DEPOSITION IN PARTICULAR OF METAL OXIDES BY NON-CONTINUOUS PRECURSOR INJECTION
(FR) PROCEDE DE DEPOT NOTAMMENT D'OXYDES METALLIQUES PAR INJECTION NON CONTINUE DE PRECURSEURS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden mindestens einer Schicht auf mindestens einem Substrat in einer Prozesskammer, wobei die Schicht aus mindestens einer Komponente besteht, wobei die zumindest eine erste metallische Komponente unter Verwendung einer nicht kontinuierlichen Injektion eines flüssigen oder eines in einer Flüssigkeit gelösten ersten Ausgangsstoffes in ein insbesondere temperiertes Trägergas verdampft wird und mindestens eine zweite Komponente als chemisch reaktiver Ausgangsstoff zugeführt wird. Wesentlich ist, dass die Ausgangsstoffe abwechselnd in die Prozesskammer eingebracht werden, so dass der zweite Ausgangsstoff ein chemisch reaktives Gas oder eine chemisch reaktive Flüssigkeit ist.
(EN)The invention relates to a method for the deposition of at least one layer on at least one substrate in a process chamber, whereby the layer comprises at least one component. The at least one first metal component is vaporised in a particularly conditioned carrier gas by means of a non-continuous injection of a starting material in the form of a liquid or dissolved in a liquid and at least one second component as chemically-reactive starting material. The starting materials are alternately introduced into the process chamber and the second starting material is a chemically-reactive gas or a chemically-reactive liquid.
(FR)L'invention concerne un procédé pour déposer au moins une couche sur au moins un substrat dans une chambre de processus, la couche étant constituée d'au moins un composant. Selon l'invention, le(s) premier(s) composant(s) métallique(s) est(sont) évaporé(s) par injection non continue d'une première substance de départ liquide ou dissoute dans un liquide dans un gaz porteur notamment tempéré. Au moins un deuxième composant est acheminé en tant que substance de départ chimiquement réactive. L'invention est caractérisée en ce que les substances de départ sont introduites en alternance dans la chambre de processus de sorte que la deuxième substance initiale est un gaz chimiquement réactif ou un liquide chimiquement réactif.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)