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1. (WO2005071130) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM HANDHABEN EINES DIELEKTRISCHEN SUBSTRATES UND EINER DIELEKTRISCHEN MASKE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2005/071130    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2004/053429
Veröffentlichungsdatum: 04.08.2005 Internationales Anmeldedatum: 13.12.2004
IPC:
C23C 14/04 (2006.01)
Anmelder: AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17, 52072 Aachen (DE) (For All Designated States Except US).
STRZYZEWSKI, Piotr [AT/DE]; (DE) (For US Only).
STRAUCH, Gerhard, Karl [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: STRZYZEWSKI, Piotr; (DE).
STRAUCH, Gerhard, Karl; (DE)
Vertreter: GRUNDMANN, Dirk; Rieder & Partner, Corneliusstr. 45, 42329 Wuppertal (DE)
Prioritätsdaten:
103 60 106.6 20.12.2003 DE
Titel (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM HANDHABEN EINES DIELEKTRISCHEN SUBSTRATES UND EINER DIELEKTRISCHEN MASKE
(EN) METHOD AND DEVICE FOR HANDLING A DIELECTRIC SUBSTRATE AND A DIELECTRIC MASK
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MANIPULATION D'UN SUBSTRAT DIELECTRIQUE ET D'UN MASQUE DIELECTRIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Handhaben eines dielektrischen Substrates (3) und einer elektrisch leitenden oder dielektrischen Maske (4), ins­besondere zum Be- und Entladen einer Prozess-, Lager-kammer oder einer Ju­stiervorrichtung mit einem von einer elektrisch leitenden Maske (4) abgedeck­ten dielektrischen Substrat (3). Vorgesehen ist, dass das an einer Auflagefläche (2') eines Substrathalters (2) fixierte Substrat (3) die an einer Anlagefläche (1') eines Maskenhalters (1) elektrostatisch oder elektromagnetisch anhaftenden Maske (4) auf das Substrat (3) aufgelegt wird und durch eine vom Substrathal­ter (2) erzeugte elektrostatische oder elektromagnetische Kraft in Flächenanlage auf dem Substrat haftet.
(EN)The invention relates to a method for handling a dielectric substrate (3) and an electroconductive or dielectric mask (4), especially for charging or discharging a process chamber, a storage chamber or an adjusting device with a dielectric substrate (3) covered by an electroconductive mask (4). According to the invention, the mask (4) that electrostatically or electromagnetically adheres to a bearing surface (1') of a mask holder (1) is applied to the substrate (3) fixed to a bearing surface (2') of a substrate holder (2), and adheres to the substrate by means of an electrostatic or electromagnetic force produced by the substrate holder (2).
(FR)L'invention concerne un procédé de manipulation d'un substrat diélectrique (3) et d'un masque électroconducteur ou diélectrique (4), notamment pour charger et décharger une chambre de traitement, une chambre de stockage ou un dispositif d'ajustement d'un substrat diélectrique (3) recouvert d'un masque électroconducteur (4). On pose sur le substrat (3) qui est fixé à une surface d'appui (2') d'un porte-substrat (2), le masque (4) qui adhère par voie électrostatique ou électromagnétique à une surface de pose (1') d'un porte-masque (1) et le masque adhère sur toute sa surface au substrat par une force électrostatique ou électromagnétique produite par le porte-substrat (2).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)