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1. (WO2004109348) POLYMERFILM MIT HELIKALER MOLEKULARSTRUKTUR
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2004/109348    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2004/003174
Veröffentlichungsdatum: 16.12.2004 Internationales Anmeldedatum: 25.03.2004
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    20.12.2004    
IPC:
G02B 5/30 (2006.01)
Anmelder: CONSORTIUM FÜR ELEKTROCHEMISCHE INDUSTRIE GMBH [DE/DE]; Zielstattstr. 20, 81379 München (DE) (For All Designated States Except US).
HANELT, Eckhard [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: HANELT, Eckhard; (DE)
Vertreter: SCHUDERER, Michael; c/o Wacker-Chemie GmbH, Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE)
Prioritätsdaten:
103 25 610.5 05.06.2003 DE
Titel (DE) POLYMERFILM MIT HELIKALER MOLEKULARSTRUKTUR
(EN) POLYMER FILM WITH A HELICAL MOLECULAR STRUCTURE
(FR) FILM POLYMERIQUE A STRUCTURE MOLECULAIRE HELICOIDALE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft einen Polymerfilm mit einstellbarem Gradienten der Ganghöhe einer helikalen Molekularstruktur, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung.
(EN)The invention relates to a polymer film with adjustable gradients of the pitch of a helical molecular structure and to a method for the production and use thereof.
(FR)L'invention concerne un film polymérique à gradient réglable du pas d'une structure moléculaire hélicoïdale. L'invention concerne également un procédé pour sa production et son utilisation.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)