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1. (WO2004108615) QUARZGLAS-ZYLINDER FÜR DIE HERSTELLUNG EINES OPTISCHEN BAUTEILS SOWIE VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2004/108615    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2004/005950
Veröffentlichungsdatum: 16.12.2004 Internationales Anmeldedatum: 02.06.2004
IPC:
C03B 19/14 (2006.01), C03B 37/012 (2006.01), C03B 37/027 (2006.01)
Anmelder: HERAEUS TENEVO GMBH [DE/DE]; Quarzstrasse 8, 63450 Hanau (DE) (For All Designated States Except US).
FABIAN, Heinz [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: FABIAN, Heinz; (DE)
Vertreter: STAUDT, Armin; Auf der Mauer 8, 63674 Altenstadt (DE)
Prioritätsdaten:
103 25 539.7 04.06.2003 DE
Titel (DE) QUARZGLAS-ZYLINDER FÜR DIE HERSTELLUNG EINES OPTISCHEN BAUTEILS SOWIE VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG
(EN) QUARTZ GLASS CYLINDER FOR PRODUCTION OF AN OPTICAL COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCTION THEROF
(FR) CYLINDRE DE VERRE DE QUARTZ POUR LA PRODUCTION D'UN COMPOSANT OPTIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT COMPOSANT OPTIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Um einen bekannten Quarzglas-Zylinder für die Herstellung eines optischen Bauteils, der eine Innenbohrung aufweist, welche mechanisch auf Endmass bearbeitet und infolge einer der mechanischen Bearbeitung folgenden Ätzbehandlung mit einer Ätzstruktur versehen ist, dahingehend zu verbessern, dass bei seinem Einsatz zur Herstellung von Vorformen und optischen Fasern wenig Blasen entlang der Grenzfläche zwischen Kern und Mantel entstehen, wird erfindungsgemäss vorgeschlagen, dass die Ätzstruktur Risse aufweist, die maximal eine Tiefe von 2,0 mm und maximal eine Breite von 100 µm aufweisen. Ein Verfahren zur Herstellung eine derartigen mechanisch auf Endmass bearbeiteten Quarzglas-Zylinders zeichnet sich dadurch aus, dass die mechanische Bearbeitung mehrere aufeinanderfolgende Abtragvorgänge mit sukzessiv geringerer Abtragtiefe umfasst, wobei nach dem letzten Abtragvorgang die Innenbohrung subkutane Risse mit einer Tiefe von maximal 2 mm aufweist, und dass die Innenbohrung anschliessend einer Ätzbehandlung unterzogen wird, derart, dass sich ein Ätzabtrag mit einer Tiefe von maximal 50 µm ergibt.
(EN)The aim of the invention is to improve a known quartz glass cylinder for the production of an optical component, comprising an inner drilling, which is mechanically machined to size and provided with an etched structure by means of an etching treatment, subsequent to the mechanical machining, such that in the application thereof for production of pre-forms and optical fibres, few bubbles arise along the boundary surface between core and sleeve. Said aim is achieved, whereby the etched structure comprises striations with a maximum depth of 2.0 mm and a maximum width of 100 µm. A method for production of such a quartz glass cylinder mechanically machined to size is characterised in that the mechanical machining comprises several serial removal processes with successively lower removal depths, whereby after the last removal process the inner drilling has sub-surface striations with a maximum depth of 2 mm and the inner drilling is subsequently subjected to an etching treatment such that an etching removal with a maximum depth of 50 µm is achieved.
(FR)L'objet de la présente invention est d'améliorer un cylindre de verre de quartz connu pour la production d'un composant optique, ledit cylindre comportant un trou interne usiné mécaniquement à la cote finale et pourvu d'une structure corrodée obtenue à la suite d'un traitement d'attaque postérieur au traitement mécanique, de manière telle que lors de son utilisation pour la fabrication de préformes et de fibres optiques, peu de boursouflures apparaissent à la surface limite entre le coeur et la gaine. A cet effet, la structure corrodée possède des fentes d'une profondeur maximale de 2,0 mm et d'une largeur maximale de 100 µm. Un procédé de fabrication d'un cylindre de verre de quartz de ce type usiné mécaniquement à la cote finale se caractérise en ce que l'usinage mécanique est constitué par plusieurs processus d'enlèvement successifs dont la profondeur d'enlèvement est de plus en plus petite, le trou interne possédant, après le dernier processus d'enlèvement, des fentes sous sa surface d'une profondeur de 2 mm au maximum, et en ce que le trou interne est soumis ensuite à un traitement d'attaque de manière telle qu'un enlèvement par attaque d'une profondeur maximale de 50 $g(m)m est obtenue.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)