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1. (WO2004081017) METALLKOMPLEXE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2004/081017 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2004/002393
Veröffentlichungsdatum: 23.09.2004 Internationales Anmeldedatum: 09.03.2004
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 11.01.2005
IPC:
C07D 213/30 (2006.01) ,C07D 217/16 (2006.01) ,C07F 15/00 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
D
Heterocyclische Verbindungen
213
Heterocyclische Verbindungen, die sechsgliedrige Ringe mit 1 Stickstoffatom als einziges Ring- Heteroatom enthalten, die nicht mit anderen Ringen kondensiert sind und die drei oder mehr Doppelbindungen innerhalb des Rings oder zwischen Ringatomen und Atomen außerhalb des Rings enthalten
02
mit drei Doppelbindungen innerhalb des Rings oder zwischen Ringatomen und Atomen außerhalb des Rings
04
wobei keine Bindung zwischen Ring- Stickstoffatom und einem Nichtringglied besteht, oder nur Wasserstoff- oder Kohlenstoffatome direkt an das Ring- Stickstoffatom gebunden sind
24
mit an Ring-Kohlenstoffatome gebundenen substituierten Kohlenwasserstoffresten
28
Kohlenwasserstoffreste substituiert durch einfach gebundene Sauerstoff- oder Schwefelatome
30
Sauerstoffatome
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
D
Heterocyclische Verbindungen
217
Heterocyclische Verbindungen, die Isochinolin- oder hydrierte Isochinolin-Ringsysteme enthalten
12
mit an Kohlenstoffatome des Stickstoff enthaltenden Rings gebundenen Kohlenwasserstoffresten, die durch Heteroatome substituiert sind
14
andere als Aralkylreste
16
substituiert durch Sauerstoffatome
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
F
Acyclische, carbocyclische oder heterocyclische Verbindungen, die andere Elemente als Kohlenstoff, Wasserstoff, Halogen, Sauerstoff, Stickstoff, Schwefel, Selen oder Tellur enthalten
15
Verbindungen, die Elemente der achten Gruppe des Periodensystems enthalten
Anmelder:
COVION ORGANIC SEMICONDUCTORS GMBH [DE/DE]; Industriepark Höchst F 821 65926 Frankfurt am Main, DE (AllExceptUS)
STÖBEL, Philipp [DE/DE]; DE (UsOnly)
SPREITZER, Hubert [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
STÖBEL, Philipp; DE
SPREITZER, Hubert; DE
Vertreter:
DÖRR, Klaus ; Industriepark Höchst, Geb. F 821 65926 Frankfurt, DE
Prioritätsdaten:
103 10 887.411.03.2003DE
Titel (DE) METALLKOMPLEXE
(EN) METAL COMPLEXES
(FR) COMPLEXES METALLIQUES
Zusammenfassung:
(DE) Die vorliegende Erfindung beschreibt neuartige Metallkomplexe. Derartige Verbindungen sind als Wirkkomponenten (= Funktionsmaterialien) in einer Reihe von verschiedenartigen Anwendungen, die im weitesten Sinne der Elektronikindustrie zugerechnet werden können, einsetzbar. Die erfindungsgemäßen Verbindungen werden durch die Struktur 1 und die Formeln (1) bis (82) beschrieben.
(EN) The invention relates to novel metal complexes. Said compounds are used as active components (= functional materials) in a series of different applications which can be attributed in the broadest sense to the electronics industry. The compounds according to the invention are described by structure 1 and formulae 1 to 82.
(FR) L'invention concerne de nouveaux complexes métalliques. Lesdits composés sont utilisés en tant que composants actifs (matériau fonctionnel) dans une pluralité d'applications diverses, qui regroupent au sens large l'industrie électronique. Les composés de l'invention sont décrits par la structure (1) et les formules (1) à (82).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
KR1020060002810EP1603923JP2007524585US20060220004US20100227978CN1759120