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1. (WO2004076996) VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG OPTIMALER GITTERPARAMETER FÜR DIE HERSTELLUNG EINES BEUGUNGSGITTERS FÜR EIN VUV­ SPEKTROMETER
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Veröff.-Nr.: WO/2004/076996 Internationale Anmeldenummer PCT/DE2004/000058
Veröffentlichungsdatum: 10.09.2004 Internationales Anmeldedatum: 17.01.2004
IPC:
G01J 3/18 (2006.01) ,G02B 5/18 (2006.01)
G Physik
01
Messen; Prüfen
J
Messen der Intensität, der Geschwindigkeit, der spektralen Zusammensetzung, der Polarisation, der Phase oder der Pulscharakteristik von infrarotem, sichtbarem oder ultraviolettem Licht; Farbmessung; Strahlungspyrometrie
3
Spektrometrie; Spektrofotometrie; Monochromatoren; Farbmessung
12
Erzeugen des Spektrums; Monochromatoren
18
durch Beugungselemente, z.B. Gitter
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
5
Optische Elemente außer Linsen
18
Beugungsgitter
Anmelder:
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Wilhelm-Johnen-Strasse 52425 Jülich, DE (AllExceptUS)
BIEL, Wolfgang [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
BIEL, Wolfgang; DE
Allgemeiner
Vertreter:
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH; Fachbereich Patente 52425 Jülich, DE
Prioritätsdaten:
103 07 884.325.02.2003DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG OPTIMALER GITTERPARAMETER FÜR DIE HERSTELLUNG EINES BEUGUNGSGITTERS FÜR EIN VUV­ SPEKTROMETER
(EN) METHOD FOR DETERMINING OPTIMUM GRATING PARAMETERS FOR PRODUCING A DIFFRACTION GRATING FOR A VUV SPECTROMETER
(FR) PROCEDE POUR DETERMINER DES PARAMETRES DE RESEAU OPTIMAUX POUR LA PRODUCTION D'UN RESEAU DE DIFFRACTION DESTINE A UN SPECTROMETRE VUV
Zusammenfassung:
(DE) Die Erfindung beschreibt ein Verfahren zur Ermittlung eines Satzes an Gitterparametern für die Herstellung eines Beugungsgitters für ein VUV-Spektrometer, wobei der kleine und große Radius des toroidalen Gittersubstrates(&rgr; und R), die beiden Abstände der zwei ho­lographischen Beleuchtungspunkte vom Gitterursprung (rc und ra), die Winkelstellung der holographischen Be­leuchtungspunkte zur Gitternormalen (ϝ und &dgr;) sowie die Laserwellenlänge für die holographische Beleuchtung &lgr;L als Parameter eingesetzt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren ermittelt dabei auf numerischem, iterativem Wege für eine spezielle Aufgabenstellung jeweils opti­male Gitterparameter. Das Verfahren ermöglicht so vorteilhaft die Herstellung eines VUV-Spektrometers mit einem Beugungsgitter, wel­ches beispielsweise für einen vorgegebenen Wellenlän­genbereich eine minimale Linienbreite am Detektor bei hoher Etendue erzielt.
(EN) The invention relates to a method for determining a set of grating parameters for producing a diffraction grating for a VUV spectrometer, the parameters used being the small and the large radius of the toroidal grating substrate (&rgr; and R), the two distances between the two holographic illumination points and the grating origin (rc and ra), the angular position of the holographic illumination points in relation to the grating normal (ϒ and &dgr;), and the laser wavelength for the holographic illumination &lgr;L. Said method determines respective optimum grating parameters, on numeric, iterative paths, for a specific problem definition. The inventive method thus advantageously enables the production of a VUV spectrometer comprising a diffraction grating, which, for example for a pre-determined wavelength range, produces a minimum line width on the detector with a large range.
(FR) L'invention concerne un procédé pour déterminer un ensemble de paramètres de réseau pour la production d'un réseau de diffraction destiné à un spectromètre VUV, les paramètres utilisés étant le petit et le grand rayon du substrat de réseau toroïdal ($g(r) et R), les deux distances entre les deux points d'éclairage holographique et la source du réseau (rc et rd), la position angulaire des points d'éclairage holographique par rapport à la normale au réseau ($g(g) et $g(d)), ainsi que la longueur d'onde de laser pour l'éclairage holographique $g(l)L. Le procédé selon l'invention détermine des paramètres de réseau optimaux pour chaque cas particulier de façon numérique et itérative. Ce procédé permet ainsi de produire de façon avantageuse un spectromètre VUV pourvu d'un réseau de diffraction permettant d'obtenir par exemple pour un domaine spectral prédéterminé une largeur de raie minimale au niveau du détecteur avec une grande étendue.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
EP1597548JP2006518865US20060146344