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1. (WO2004074822) VERFAHREN, VORRICHTUNG UND SOFTWARE ZUR OPTISCHEN INSPEKTION EINES HALBLEITERSUBSTRATS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2004/074822 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2004/000154
Veröffentlichungsdatum: 02.09.2004 Internationales Anmeldedatum: 13.01.2004
IPC:
G01D 1/14 (2006.01) ,G01N 21/95 (2006.01) ,G06T 7/00 (2006.01)
G Physik
01
Messen; Prüfen
D
Anzeigen oder Aufzeichnen in Verbindung mit Messen allgemein; Einrichtungen oder Instrumente zum Messen von zwei oder mehr Veränderlichen, soweit nicht von einer anderen Unterklasse umfasst; Tarifmessgeräte; Übertragungs- oder Umwandlungseinrichtungen, die nicht an eine spezielle Veränderliche angepasst sind; Messen oder Prüfen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
1
Anzeige- oder Aufzeichnungsgeräte, die andere Resultate geben als den Momentanwert von Veränderlichen, für allgemeine Verwendung
14
für eine Verteilungsfunktion von Messwerten [Häufigkeitsverteilung], d.h. wievielmal die Werte einer Veränderlichen in bestimmten Bereichen der Amplitude vorkommen
G Physik
01
Messen; Prüfen
N
Untersuchen oder Analysieren von Stoffen durch Bestimmen ihrer chemischen oder physikalischen Eigenschaften
21
Optisches Untersuchen oder Analysieren von Stoffen, d.h. durch die Anwendung infraroten, sichtbaren oder ultravioletten Lichts
84
Systeme, speziell ausgebildet für besondere Anwendungen
88
Untersuchen der Anwesenheit von Fehlern oder Verunreinigungen
95
gekennzeichnet durch das Material oder die Form des zu untersuchenden Gegenstandes
G Physik
06
Datenverarbeitung; Rechnen; Zählen
T
Bilddatenverarbeitung oder Bilddatenerzeugung allgemein
7
Bildanalyse, z.B. um von einem bitweise organisierten Bild zu einem nicht bitweise organisierten Bild zu gelangen
Anmelder:
LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH [DE/DE]; Ernst-Leitz-Strasse 17-37 35578 Wetzlar, DE (AllExceptUS)
MICHELSSON, Detlef [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
MICHELSSON, Detlef; DE
Prioritätsdaten:
103 07 454.621.02.2003DE
Titel (DE) VERFAHREN, VORRICHTUNG UND SOFTWARE ZUR OPTISCHEN INSPEKTION EINES HALBLEITERSUBSTRATS
(EN) METHOD, DEVICE AND SOFTWARE FOR THE OPTICAL INSPECTION OF A SEMI-CONDUCTOR SUBSTRATE
(FR) PROCEDE, DISPOSITIF ET LOGICIEL D'INSPECTION OPTIQUE D'UN SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR
Zusammenfassung:
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur optischen Inspektion der Oberfläche eines Halbleitersubstrats. Von der Oberfläche des mit einer dünnen Schicht überzogenen Halbleitersubstrats wird ein Bild aufgenommen (1), das aus einer Mehrzahl von Bildpunkten mit zugeordneten Farbwerten und Intensitäten aufgebaut ist. Aus den Farbwerten wird in einem Farbraum (2), der von einer Farbintensität und von Farbkoordinaten aufgespannt wird, eine Häufigkeitsverteilung von Bildpunkten mit gleichen Farbkoordinatenwerten berechnet (3,4,5). Die so berechnete Häufigkeitsverteilung wird für einen Vergleich mit einer zweiten entsprechend berechneten Häufigkeitsverteilung oder einer aus dieser abgeleiteten Grösse verwendet (7, 9). Erfindungsgemäss lassen sich so Farbverschiebung (9) und/oder Differenzen (7) in der Farbverteilung unabhängig von Schwankungen in der Helligkeit der Beleuchtung ermitteln. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines strukturierten Halbleitersubstrats unter Verwendung des vorgenannten Verfahrens bzw. der vorgenannten Vorrichtung sowie eine Software zum Durchführen des Verfahrens.
(EN) The invention relates to a method and a device for the optical inspection of the surface of semi-conductor substrate. An image (1) is captured on the surface of the semi-conductor substrate which is covered with a thin layer. Said image is made of a plurality of pixels having associated colour values and intensities. The frequency distribution of pixels having equal colour co-ordination values is calculated (3,4,5) from the colour values in a colour range (2), said colour range having a colour intensity and colour co-ordinates. The thus calculated frequency distribution is used (7, 9) to compare a second correspondingly calculated frequency distribution or a variable derived therefrom. According to the invention, the colour shift (9) and/or differences (7) in the colour distribution are determined according to fluctuations in the intensity of the illumination. The invention also relates to a method and a device for producing a structured semi-conductor substrate by using the above-mentioned method or the above-mentioned device and software for carrying out said method.
(FR) La présente invention concerne un procédé et un dispositif d'inspection optique de la surface d'un substrat semi-conducteur. Une image de la surface du substrat semi-conducteur revêtu d'une fine couche, est prise (1), ladite image étant constituée d'une pluralité de points d'image avec des valeurs de couleur et des intensités associées. A partir des valeurs de couleur est calculée (3,4,5), dans un espace couleur (2) qui est fixé par une intensité de couleur et des coordonnées de couleur, une répartition de fréquence des points d'image ayant les mêmes valeurs de coordonnées de couleur. La répartition de fréquence ainsi calculée est utilisée (7, 9) pour réaliser une comparaison avec une seconde répartition de fréquence calculée correspondante ou une grandeur dérivée de celle-ci. Selon l'invention, le décalage de couleur (9) et/ou les différences (7) de répartition de couleur sont déterminés indépendamment des variations de la luminosité de l'éclairage. L'invention a également pour objet un procédé et un dispositif pour réaliser un substrat semi-conducteur structuré, ainsi qu'un logiciel pour mettre en oeuvre le procédé.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Also published as:
US20060176476