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1. (WO2004074206) AUFDAMPFMATERIAL ZUR HERSTELLUNG MITTELBRECHENDER OPTISCHER SCHICHTEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2004/074206 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2004/000719
Veröffentlichungsdatum: 02.09.2004 Internationales Anmeldedatum: 28.01.2004
IPC:
C03C 17/245 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01) ,G02B 1/10 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
03
Glas; Mineral- oder Schlackenwolle
C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails; Oberflächenbehandlung von Glas; Oberflächenbehandlung von Fasern oder Fäden aus Glas, Mineralien oder Schlacken; Verbinden von Glas mit Glas oder anderen Stoffen
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Oberflächenbehandlung von Glas, z.B. entglastem Glas, außer Fasern oder Filamenten aus Glas, durch Überziehen
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mit anderen anorganischen Stoffen
23
Oxide
245
durch Abscheidung aus der Dampfphase
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
06
gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial
08
Oxide
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
1
Optische Elemente, gekennzeichnet durch das Material, aus dem sie hergestellt sind; optische Beschichtungen für optische Elemente
10
Optische Beschichtungen, die durch Aufbringen auf optische Elemente oder durch Oberflächenbehandlung hergestellt sind
Anmelder:
MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Strasse 250 64293 Darmstadt, DE (AllExceptUS)
FRIZ, Martin [DE/DE]; DE (UsOnly)
DOMBROWSKI, Reiner [DE/DE]; DE (UsOnly)
ANTHES, Uwe [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
FRIZ, Martin; DE
DOMBROWSKI, Reiner; DE
ANTHES, Uwe; DE
Allgemeiner
Vertreter:
MERCK PATENT GMBH; Frankfurter Strasse 250 64293 Darmstadt, DE
Prioritätsdaten:
103 07 096.619.02.2003DE
Titel (DE) AUFDAMPFMATERIAL ZUR HERSTELLUNG MITTELBRECHENDER OPTISCHER SCHICHTEN
(EN) EVAPORATION MATERIAL FOR THE PRODUCTION OF AVERAGE REFRACTIVE OPTICAL LAYERS
(FR) MATERIAU DE DEPOT PAR EVAPORATION POUR PRODUIRE DES COUCHES A INDICE DE REFRACTION OPTIQUE MOYEN
Zusammenfassung:
(DE) Die Erfindung betrifft ein Aufdampfmaterial zur Herstellung mittelbre­chender optischer Schichten, welches Aluminiumoxid und Gadoliniumoxid, Dysprosiumoxid und/oder Ytterbiumoxid enthält, ein Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung.
(EN) The invention relates to an evaporation material for producing average refractive optical layers which contain aluminium oxide and gadolinium oxide, dysprosium oxide and/or ytterbium oxide. The invention also relates to a method for the production and use thereof.
(FR) La présente invention concerne un matériau de dépôt par évaporation qui sert à produire des couches à indice de réfraction optique moyen, ledit matériau contenant de l'oxyde d'aluminium et de l'oxyde de gadolinium, de l'oxyde de dysprosium et/ou de l'oxyde d'ytterbium. L'invention a également pour objet un procédé pour produire ce matériau et son utilisation.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
KR1020050103233EP1594814JP2006518008JP2011084817US20060234071CN1751005