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1. (WO2004074200) AUFDAMPFMATERIAL ZUR HERSTELLUNG HOCHBRECHENDER OPTISCHER SCHICHTEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2004/074200 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2004/000554
Veröffentlichungsdatum: 02.09.2004 Internationales Anmeldedatum: 23.01.2004
IPC:
C03C 17/245 (2006.01) ,C09C 1/00 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
03
Glas; Mineral- oder Schlackenwolle
C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails; Oberflächenbehandlung von Glas; Oberflächenbehandlung von Fasern oder Fäden aus Glas, Mineralien oder Schlacken; Verbinden von Glas mit Glas oder anderen Stoffen
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Oberflächenbehandlung von Glas, z.B. entglastem Glas, außer Fasern oder Filamenten aus Glas, durch Überziehen
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mit anderen anorganischen Stoffen
23
Oxide
245
durch Abscheidung aus der Dampfphase
C Chemie; Hüttenwesen
09
Farbstoffe; Anstrichstoffe; Polituren; Naturharze; Klebstoffe; Zusammensetzungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Anwendungen von Stoffen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
C
Behandlung von anorganischen Stoffen, außer von faserigen Füllstoffen, zum Erhöhen ihrer pigmentierenden oder füllenden Eigenschaften; Herstellung von Ruß
1
Behandlung von bestimmten anorganischen Stoffen außer faserigen Füllstoffen; Herstellung von Ruß
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
06
gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial
08
Oxide
Anmelder:
MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Str. 250 64293 Darmstadt, DE (AllExceptUS)
FRIZ, Martin [DE/DE]; DE (UsOnly)
DOMBROWSKI, Reiner [DE/DE]; DE (UsOnly)
ANTHES, Uwe [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
FRIZ, Martin; DE
DOMBROWSKI, Reiner; DE
ANTHES, Uwe; DE
Allgemeiner
Vertreter:
MERCK PATENT GMBH; Frankfurter Str. 250 64293 Darmstadt, DE
Prioritätsdaten:
103 07 095.819.02.2003DE
Titel (DE) AUFDAMPFMATERIAL ZUR HERSTELLUNG HOCHBRECHENDER OPTISCHER SCHICHTEN
(EN) VAPORIZING MATERIAL FOR PRODUCING HIGHLY REFRACTIVE OPTICAL LAYERS
(FR) MATIERE DE VAPORISATION POUR PRODUIRE DES COUCHES OPTIQUES A HAUTE REFRACTION
Zusammenfassung:
(DE) Die Erfindung betrifft ein Aufdampfmaterial zur Herstellung hochbrechender optischer Schichten, welches Titanoxid und Ytterbiumoxid in einem molaren Verhältnis von 4:1 bis 1:4 enthält, ein Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung.
(EN) The invention relates to a vaporizing material for producing highly refractive optical layers, comprising titanium oxide and ytterbium oxide in a molar ratio of 4:1 to 1:4. The invention also relates to a method for producing the same and its use.
(FR) L'invention concerne une matière de vaporisation, destinée à produire des couches optiques à haute réfraction, comprenant de l'oxyde de titane et de l'oxyde d'ytterbium dans un rapport molaire compris entre 4 :1 et 1 :4. L'invention concerne également un procédé de production de ladite matière et son utilisation.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Also published as:
KR1020050102661EP1597212JP2006519305US20070082224CN1751001