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1. WO2003087945 - INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG

Veröffentlichungsnummer WO/2003/087945
Veröffentlichungsdatum 23.10.2003
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2003/003566
Internationales Anmeldedatum 05.04.2003
IPC
G02B 5/02 2006.01
GPhysik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
5Optische Elemente außer Linsen
02Lichtstreuende Elemente; afokale Elemente
G03F 7/20 2006.01
GPhysik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G02B 5/0221
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
02Diffusing elements; Afocal elements
0205characterised by the diffusing properties
021the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
0221the surface having an irregular structure
G02B 5/0252
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
02Diffusing elements; Afocal elements
0205characterised by the diffusing properties
0252using holographic or diffractive means
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
G03F 7/706
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
70591Testing optical components
706Aberration measurement
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT AG [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • SCHRIEVER, Martin [DE]/[DE] (UsOnly)
  • WEGMANN, Ulrich [DE]/[DE] (UsOnly)
  • HAIDNER, Helmut [DE]/[DE] (UsOnly)
Erfinder
  • SCHRIEVER, Martin
  • WEGMANN, Ulrich
  • HAIDNER, Helmut
Vertreter
  • RUFF, WILHEM, BEIER, DAUSTER & PARTNER
Prioritätsdaten
102 17 242.015.04.2002DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG
(EN) INTERFEROMETRIC MEASURING DEVICE AND PROJECTION ILLUMINATION INSTALLATION COMPRISING ONE SUCH MEASURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE INTERFEROMETRIQUE ET INSTALLATION D'ECLAIRAGE DE PROJECTION POURVUE D'UN DISPOSITIF DE MESURE DE CE TYPE
Zusammenfassung
(DE)
Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.
(EN)
The invention relates to a device for the interferometric measurement of an optical imaging system which is used to image a useful model provided on a mask in the image plane of said imaging system. Said measuring device has a wave front source for producing at least one wave front which passes through the imaging system, a diffraction grid which can be arranged behind the imaging system in order to interact with the wave front which is modified by the imaging system, and a spatially resolving detector which is associated with the diffraction grid and is used to detect interferometric information. The wave front source comprises at least one measuring model (34) which is embodied on the mask (8) along with the useful model (35).
(FR)
L'invention concerne un dispositif de mesure interférométrique d'un système d'imagerie optique qui sert à représenter un modèle utile prévu sur un masque dans le plan d'image dudit système d'imagerie. Ce dispositif de mesure comprend les éléments suivants : une source de front d'onde générant au moins un front d'onde qui traverse le système d'imagerie ; un réseau de diffraction disposé derrière le système d'imagerie pour interagir avec le front d'onde modifié par le système d'imagerie ; un détecteur à résolution locale, associé au réseau de diffraction, pour saisir l'information interférométrique. Selon l'invention, la source de front d'onde comporte au moins un modèle de mesure (34), configuré en plus du modèle utile (35) sur le masque (8).
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