WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2003087945) INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/087945    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2003/003566
Veröffentlichungsdatum: 23.10.2003 Internationales Anmeldedatum: 05.04.2003
IPC:
G02B 5/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SCHRIEVER, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WEGMANN, Ulrich [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HAIDNER, Helmut [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SCHRIEVER, Martin; (DE).
WEGMANN, Ulrich; (DE).
HAIDNER, Helmut; (DE)
Vertreter: RUFF, WILHEM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30, 70174 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
102 17 242.0 15.04.2002 DE
Titel (DE) INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG
(EN) INTERFEROMETRIC MEASURING DEVICE AND PROJECTION ILLUMINATION INSTALLATION COMPRISING ONE SUCH MEASURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE INTERFEROMETRIQUE ET INSTALLATION D'ECLAIRAGE DE PROJECTION POURVUE D'UN DISPOSITIF DE MESURE DE CE TYPE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.
(EN)The invention relates to a device for the interferometric measurement of an optical imaging system which is used to image a useful model provided on a mask in the image plane of said imaging system. Said measuring device has a wave front source for producing at least one wave front which passes through the imaging system, a diffraction grid which can be arranged behind the imaging system in order to interact with the wave front which is modified by the imaging system, and a spatially resolving detector which is associated with the diffraction grid and is used to detect interferometric information. The wave front source comprises at least one measuring model (34) which is embodied on the mask (8) along with the useful model (35).
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure interférométrique d'un système d'imagerie optique qui sert à représenter un modèle utile prévu sur un masque dans le plan d'image dudit système d'imagerie. Ce dispositif de mesure comprend les éléments suivants : une source de front d'onde générant au moins un front d'onde qui traverse le système d'imagerie ; un réseau de diffraction disposé derrière le système d'imagerie pour interagir avec le front d'onde modifié par le système d'imagerie ; un détecteur à résolution locale, associé au réseau de diffraction, pour saisir l'information interférométrique. Selon l'invention, la source de front d'onde comporte au moins un modèle de mesure (34), configuré en plus du modèle utile (35) sur le masque (8).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)