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1. (WO2003084484) ZUSAMMENSETZUNG MIT UV-SCHUTZ
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2003/084484 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2003/003570
Veröffentlichungsdatum: 16.10.2003 Internationales Anmeldedatum: 07.04.2003
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 17.09.2003
IPC:
A61K 8/35 (2006.01) ,A61K 8/81 (2006.01) ,A61K 8/898 (2006.01) ,A61Q 1/06 (2006.01) ,A61Q 5/02 (2006.01) ,A61Q 17/04 (2006.01)
Anmelder: WOOD, Claudia[DE/DE]; DE (UsOnly)
NGUYEN-KIM, Son[DE/DE]; DE (UsOnly)
BASF AKTIENGESELLSCHAFT[DE/DE]; 67056 Ludwigshafen, DE (AllExceptUS)
Erfinder: WOOD, Claudia; DE
NGUYEN-KIM, Son; DE
Allgemeiner
Vertreter:
BASF AKTIENGESELLSCHAFT; 67056 LUDWIGSHAFEN, DE
Prioritätsdaten:
102 15 656.509.04.2002DE
Titel (EN) COMPOSITION PROVIDING UV PROTECTION
(FR) COMPOSITION ASSURANT UNE PROTECTION U.V.
(DE) ZUSAMMENSETZUNG MIT UV-SCHUTZ
Zusammenfassung: front page image
(EN) The invention relates to a cosmetic agent containing at least one light stabiliser and at least one water-soluble or water-dispersible polymer which contains a) between 5 and 50 wt. % of at least one a,b-ethylenically unsaturated monomer of general formula (I) wherein R1 represents hydrogen or C1-C8 alkyl, and X1 represents O or NR2, R2 representing hydrogen, C1-C8 alkyl or C5-C8 cycloalkyl, b) between 25 and 90 wt. % of at least one N-vinylamide and/or N-vinyl lactam, c) between 0.5 and 30 wt. % of at least one compound having an a,b-ethylenically unsaturated double bond which can be radically polymerised and at least one cationogen and/or cationic group per molecule, d) between 0 and 30 wt. % of at least one a,b-ethylenically unsaturated monomer of general formula (II) wherein R3 represents hydrogen or C1-C8 alkyl, X2 represents O or NR5, R5 representing hydrogen, C1-C8 alkyl or C5-C8 cycloalkyl, and R4 represents hydrogen or a linear C1-C22 alkyl radical, in addition to the salts of said monomer.
(FR) L'invention concerne un agent cosmétique contenant au moins un agent photoprotecteur et au moins un polymère hydrosoluble ou dispersible dans l'eau. Ledit polymère présente les constituants suivants, incorporés par polymérisation : a) 5 à 50 % en poids d'au moins un monomère $g(a),$g(b)-éthyléniquement insaturé de formule générale (I), dans laquelle R1 représente hydrogène ou alkyle C1-C8, et X1 représente O ou NR2, R2 représentant hydrogène ou alkyle C1-C8 ou cycloalkyle C5-C8 ; b) 25 à 90 % en poids d'un amide N-vinylique et/ou d'un lactame N-vinylique ; c) 0,5 à 30 % en poids d'au moins un composé présentant une double liaison $g(a),$g(b)-éthyléniquement insaturée, polymérisable par voie radicalaire, et au moins un groupe cationogène et/ou cationique par molécule ; d) 0 à 30 % en poids d'au moins un monomère $g(a),$g(b)-éthyléniquement insaturé de formule générale (II), dans laquelle R3 représente hydrogène ou alkyle C1-C8, X2 représente O ou NR5, R5 représentant hydrogène ou alkyle C1-C8 ou cycloalkyle C5-C8 , et R4 représente hydrogène ou un radical alkyle C1-C22 linéaire, ainsi que les sels dudit monomère.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft ein kosmetisches Mittel, enthaltend wenigstens ein Lichtschutzmittel und wenigstens ein wasserlösliches oder wasserdispergierbares Polymer, das a) 5 bis 50 Gew.-% wenigstens eines a,b-ethylenisch ungesättigten Monomers der allgemeinen Formel (I) worin R1 für Wasserstoff oder C1- bis C8-Alkyl steht, und X1 für O oder NR2 steht, wobei R2 für Wasserstoff, C1- bis C8-Alkyl oder C5- bis C8-Cycloalkyl steht, b) 25 bis 90 Gew.-% wenigstens eines N-Vinylamids und/oder N-Vinyllactams, c) 0,5 bis 30 Gew.-% wenigstens einer Verbindung mit einer radikalisch polymerisierbaren, a,b-ethylenisch ungesättigten Doppelbindung und mindestens einer kationogenen und/oder kationischen Gruppe pro Molekül, d) 0 bis 30 Gew.-% wenigstens eines a,b-ethylenisch ungesättigten Monomers der allgemeinen Formel (II) worin R3 für Wasserstoff oder C1- bis C8-Alkyl steht, X2 für O oder NR5 steht, wobei R5 für Wasserstoff, C1- bis C8-Alkyl oder C5- bis C8-Cycloalkyl steht, und R4 für Wasserstoff oder einen linearen C1- bis C22-Alkylrest steht, eingebaut enthält, und die Salze davon.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)