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1. (WO2003056389) PROJEKTIONSSYSTEM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/056389    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE2002/004519
Veröffentlichungsdatum: 10.07.2003 Internationales Anmeldedatum: 09.12.2002
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    21.07.2003    
IPC:
G03B 21/10 (2006.01), G03B 21/13 (2006.01), H04N 5/74 (2006.01)
Anmelder: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, 80333 München (DE) (For All Designated States Except US).
TAUBENBERGER, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: TAUBENBERGER, Thomas; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34, 80506 München (DE)
Prioritätsdaten:
101 63 481.1 21.12.2001 DE
Titel (DE) PROJEKTIONSSYSTEM
(EN) PROJECTION SYSTEM
(FR) SYSTEME DE PROJECTION
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Projektionssystem mit einer Projektionsvorrichtung, eingerichtet zur Erzeugung einer Projektion durch Aussenden einer Projektionsstrahlung, und einer Blendvorrichtung, welche derart in einen Strahlengang der Projektionsstrahlung eingebracht ist, dass ein Teil der Projektion derart ausgeblendet wird, dass sich in dem ausgeblendeten Teil der Projektion eine kontinuierliche Verringerung einer Intensität der Projektionsstrahlung einstellt.
(EN)The invention relates to a projection system comprising a projection device which is used to produce a projection by emitting projection radiation, and a diaphragm device which is arranged in the beam path of the projection radiation in such a way that part of the projection is blocked out, thus causing a continuous reduction of the intensity of the projection radiation in the blocked-out part of the projection.
(FR)L'invention concerne un système de projection comportant un dispositif de projection, servant à produire une projection par émission d'un rayonnement de projection, et un dispositif d'obturation qui est disposé dans le chemin optique du rayonnement de projection de façon qu'une partie de la projection soit cachée, de sorte qu'il se produit une réduction continue de l'intensité du rayonnement de projection dans la partie cachée de la projection.
Designierte Staaten: CN, JP, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)