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1. (WO2003054631) VERFAHREN ZUR OPTIMIERUNG DER ABBILDUNGSEIGENSCHAFTEN VON MINDESTENS ZWEI OPTISCHEN ELEMENTEN SOWIE PHOTOLITHOGRAPHISCHES FERTIGUNGSVERFAHREN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/054631    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2002/011030
Veröffentlichungsdatum: 03.07.2003 Internationales Anmeldedatum: 02.10.2002
IPC:
G02B 5/30 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
MECKING, Birgit [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GRUNER, Toralf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KOHL, Alexander [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: MECKING, Birgit; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
KOHL, Alexander; (DE)
Vertreter: OSTERTAG, Ulrich; Eibenweg 10 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
101 62 796.3 20.12.2001 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR OPTIMIERUNG DER ABBILDUNGSEIGENSCHAFTEN VON MINDESTENS ZWEI OPTISCHEN ELEMENTEN SOWIE PHOTOLITHOGRAPHISCHES FERTIGUNGSVERFAHREN
(EN) METHOD FOR OPTIMIZING THE IMAGING CHARACTERISTICS OF AT LEAST TWO OPTICAL ELEMENTS AND PHOTOLITHOGRAPHIC PRODUCTION PROCESS
(FR) PROCEDE D'OPTIMISATION DES PROPRIETES DE REPRESENTATION D'AU MOINS DEUX ELEMENTS OPTIQUES ET PROCEDE DE PRODUCTION PHOTOLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Bei einem Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen (9, 10), bei dem die relative Lage der optischen Elemente (9, 10) zur Optimierung der optischen Abbildung zueinander eingestellt wird, werden folgende Verfahrensschritte durchgeführt: Zunächst wird eine polarisationsabhängige Störgrösse für mindestens ein optisches Element (9, 10) bestimmt. Anschliessend wird eine Zielposition mindestens eines beweglichen optischen Elements (9) aus der für dieses bestimmten Störgrösse und den Störgrössen der weiteren optischen Elemente berechnet. In welcher dieser Zielposition ist die Gesamtgrösse aller optischen Elemente (6), zusammengesetzt aus polarisationsabhängigen und polarisationsunabhängigen Störgrössen, minimiert. Schliesslich wird das bewegliche optische Element (9) in die Zielposition bewegt. Die Berücksichtigung der polarisationsabhängigen Störgrösse gewährleistet eine präzise Modellierung der Abbildungseigenschaften, welche die Voraussetzung für eine exakte Optimierung ist.
(EN)The invention relates to a method for optimizing the imaging characteristics of at least two optical elements (9, 10) wherein the relative position of the optical elements (9,10) is adjusted in order to optimize the optical imaging in relation thereto. The inventive method consists of the following steps: a polarization-dependent disturbance variable is initially determined for at least one element (9, 10). A target position of at least one movable optical element (9) is calculated from the disturbance variable determined therefor and the disturbance variables of the other optical elements. In the target position, the overall variable for all optical elements (6), comprising polarization-dependent and polarization-independent disturbance variables is minimized. The movable optical element (9) is then moved into said target position. Precise modelling of the imaging characteristics is achieved by taking into account the polarization-dependent disturbance variable, thereby creating the requisite precondition for exact optimization.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'optimisation des propriétés de représentation d'au moins deux éléments optiques (9, 10), la position relative des éléments optiques (9, 10) étant réglée pour permettre l'optimisation de la représentation optique. Le procédé de l'invention comprend les étapes suivantes: détermination d'une grandeur parasite dépendant de la polarisation pour au moins un élément optique (9, 10); détermination d'une position cible d'au moins un élément optique mobile (9) à partir de la grandeur parasite déterminée pour celui-ci et des grandeurs parasites des autres éléments optiques, la grandeur totale de tous les éléments optiques (6) composée de grandeurs parasites dépendant de la polarisation et ne dépendant pas de la polarisation, étant minimisée dans ladite position cible; déplacement de l'élément optique mobile (9) dans la position cible. La prise en compte de la grandeur parasite dépendant de la polarisation permet de garantir une modélisation précise des propriétés de représentation qui conditionne une optimisation exacte.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)