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1. (WO2003039215) PLASMABESCHLEUNIGER-ANORDNUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/039215    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2002/012095
Veröffentlichungsdatum: 08.05.2003 Internationales Anmeldedatum: 30.10.2002
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    08.02.2003    
IPC:
H05H 1/54 (2006.01)
Anmelder: THALES ELECTRON DEVICES GMBH [DE/DE]; Söflinger Strasse 100, 89077 Ulm (DE) (For All Designated States Except US).
KORNFELD, Günter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
COUSTOU, Gregory [FR/DE]; (DE) (For US Only).
EMSELLEM, Gregory [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Erfinder: KORNFELD, Günter; (DE).
COUSTOU, Gregory; (DE).
EMSELLEM, Gregory; (FR)
Vertreter: WEBER, Gerhard; Rosengasse 13, 89073 Ulm (DE)
Prioritätsdaten:
101 53 723.9 31.10.2001 DE
Titel (DE) PLASMABESCHLEUNIGER-ANORDNUNG
(EN) PLASMA ACCELERATOR SYSTEM
(FR) ENSEMBLE ACCELERATEUR DE PLASMA
Zusammenfassung: front page image
(DE)Für eine Plasmabeschleuniger-Anordnung wird ein mehrstufiger Aufbau mit wenigstens einer Zwischenelektrode zwischen einer Plasmakammer zwischen sich einschliessenden Elektroden beschrieben, bei welchen durch eine ungleichmässige Potentialaufteilung auf die durch die mehreren Elektroden gebildeten Potentialstufen mit hoher Potentialdifferenz der letzten Stufe beim Austritt des Plasmastrahls und durch eine besondere Gestaltung eines die Plasmakammer in dieser letzten Stufe durchsetzenden Magnetfelds ein besonders guter Wirkungsgrad erreicht wird.
(EN)The invention relates to a multistage plasma accelerator system that comprises at least one intermediate electrode between the plasma chamber between electrodes that include each other. An especially good efficiency can be achieved by way of an uneven distribution of potential to the potential stages formed by the plurality of electrodes having a high potential gradient of the last stage, when the plasma beam emerges, and by a special shape of the magnetic field prevailing in the plasma chamber of the last stage.
(FR)La présente invention concerne un ensemble accélérateur de plasma à plusieurs étages, comprenant au moins une électrode intermédiaire située entre des électrodes délimitant une chambre à plasma entre elles. On obtient un rendement particulièrement satisfaisant au moyen d'une distribution de potentiel non uniforme sur les étages de potentiel formés par les électrodes, avec une différence de potentiel plus élevée au dernier étage, lorsque le jet de plasma sort, et au moyen d'une configuration particulière d'un champ magnétique traversant la chambre à plasma dans le dernier étage.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)