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1. (WO2003038891) ELEKTROSTATISCHE WAFER-HALTEVORRICHTUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/038891    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE2002/003930
Veröffentlichungsdatum: 08.05.2003 Internationales Anmeldedatum: 17.10.2002
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    23.05.2003    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Anmelder: INFINEON TECHNOLOGIES AG [DE/DE]; St.-Martin-Strasse 53, 81669 München (DE) (For All Designated States Except US).
GAUTSCH, Jürgen [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KÖPPING, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PÖSL, Christian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BOCHE, Bernhard [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: GAUTSCH, Jürgen; (DE).
KÖPPING, Andreas; (DE).
PÖSL, Christian; (DE).
BOCHE, Bernhard; (DE)
Vertreter: VIERING, Hans-Martin; Viering, Jentschura & Partner, Steinsdorfstrasse 6, 80538 München (DE)
Prioritätsdaten:
101 52 101.4 23.10.2001 DE
Titel (DE) ELEKTROSTATISCHE WAFER-HALTEVORRICHTUNG
(EN) ELECTROSTATIC WAFER HOLDER DEVICE
(FR) DISPOSITIF ELECTROSTATIQUE DE RETENUE DE TRANCHES
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine elektrostatische Wafer-Haltevorrichtung (100) weist auf eine erste Elektrode (104) und eine zweite Elektrode (105) an einer ebenen Oberfläche (102), zwei mit der ersten Elektrode (104) und der zweiten Elektrode (105) elektrisch gekoppelte Anschlüsse (107) zum Anlegen einer Gleichspannung, genau einen Hochfrequenzanschluss (113) zum Anlegen einer Hochfrequenzspannung, und genau eine Kondensatorschaltung (114), wobei die Kondensatorschaltung (114) einerseits mit dem Hochfrequenzanschluss (113) und andererseits mit der ersten Elektrode (104) elektrisch gekoppelt ist.
(EN)An electrostatic wafer holder device (100) comprising a first electrode (104) and a second electrode (105) on a flat surface (102), two connections (107) which are electrically coupled to the first electrode (104) and the second electrode (105) enabling a direct voltage to be applied, one high frequency connection (113) for applying a high frequency voltage, and one capacitor circuit (114). The capacitor circuit (114) is electrically coupled to the high frequency connection (113) and to the first electrode (104)
(FR)Dispositif électrostatique (100) de retenue de tranches, qui possède une première électrode (104) et une seconde électrode (105) situées sur une surface plane (102), deux connexions (107) électriquement couplées à la première électrode (104) et à la seconde électrode (105) pour l'application d'une tension continue, une connexion à haute fréquence (113) pour l'application d'une tension à haute fréquence, et un circuit condensateur (114), ledit circuit condensateur (114) étant couplé électriquement d'une part à la connexion à haute fréquence (113) et d'autre part à la première électrode (104).
Designierte Staaten: CN, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)