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1. (WO2003036389) HOLOGRAPHISCHES AUFZEICHNUNGSMATERIAL UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINES LICHTBESTÄNDIGEN HOLOGRAMMS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/036389    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2002/011976
Veröffentlichungsdatum: 01.05.2003 Internationales Anmeldedatum: 25.10.2002
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/037 (2006.01), G03H 1/02 (2006.01)
Anmelder: XETOG AG [DE/DE]; Mitterstrassweg 23, 82064 Strasslach (DE) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
GROSS, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAIER, Gerhard [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STEBANI, Jürgen [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KNOCKE, Frank [DE/DE]; (DE) (For US Only).
JONGH DE, Rudi [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FRÖMEL, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PODRATZKI, Bernd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
EBERT, Dieter [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: GROSS, Markus; (DE).
MAIER, Gerhard; (DE).
STEBANI, Jürgen; (DE).
KNOCKE, Frank; (DE).
JONGH DE, Rudi; (DE).
FRÖMEL, Martin; (DE).
PODRATZKI, Bernd; (DE).
EBERT, Dieter; (DE)
Vertreter: ADAM, Holger; Kraus & Weisert, Thomas-Wimmer-Ring 15, 80539 München (DE)
Prioritätsdaten:
101 53 028.5 26.10.2001 DE
Titel (DE) HOLOGRAPHISCHES AUFZEICHNUNGSMATERIAL UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINES LICHTBESTÄNDIGEN HOLOGRAMMS
(EN) HOLOGRAPHIC RECORDING MATERIAL AND METHOD FOR CREATING A LIGHT-RESISTANT HOLOGRAM
(FR) MATERIAU DE REPRODUCTION HOLOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN HOLOGRAMME RESISTANT A LA LUMIERE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf photopolymerisierbare Zusammensetzungen als Aufzeichnungsmaterial für Bilder und auf Elemente mit Brechungsindexmodulation, insbesondere Hologramme. Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Bildung eines lichtbeständigen Hologramms. Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen, die als selbstentwickelndes holographisches Aufzeichnungsmaterial verwendet werden, umfassen im Wesentlichen Binder, Monomer, Photoinitiator und gegebenenfalls weitere Additive bzw. Komponenten.
(EN)The invention relates to photopolymerizable compounds, used as recording material for images and to elements with a modulation of the refractive index, in particular holograms. In addition, the invention relates to a method for creating a light-resistant hologram. The inventive compounds, which are used as self-developing holographic recording material, substantially comprise binding agents, monomers, photoinitiators and optionally further additives or constituents.
(FR)L'invention se rapport à des compositions photopolymérisables utilisées comme matériau de reproduction d'images, et à des éléments à modulation d'indice de réfraction, notamment des hologrammes. En outre, l'invention concerne un procédé de formation d'un hologramme résistant à la lumière. Les compositions selon l'invention, lesquelles sont utilisées comme matériau d'enregistrement holographique auto-développant, comprennent essentiellement des liants, des monomères, des photo-initiateurs et, le cas échéant, d'autres additifs ou composants.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)