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1. WO2003030207 - VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINES PLASMAS

Veröffentlichungsnummer WO/2003/030207
Veröffentlichungsdatum 10.04.2003
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2002/010811
Internationales Anmeldedatum 26.09.2002
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen 25.04.2003
IPC
H01J 37/32 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
CPC
H01J 37/321
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
321the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H01J 37/3266
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3266Magnetic control means
Anmelder
  • UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT [LI]/[LI] (AllExceptUS)
  • WEICHART, Jürgen [LI]/[LI] (UsOnly)
  • AMMAN, Dominik, Wimo [LI]/[LI] (UsOnly)
  • KRASSNITZER, Siegfried [AT]/[AT] (UsOnly)
Erfinder
  • WEICHART, Jürgen
  • AMMAN, Dominik, Wimo
  • KRASSNITZER, Siegfried
Vertreter
  • GROSSE-BOCKHORNI-SCHUMACHER GBR
Prioritätsdaten
101 47 998.028.09.2001DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINES PLASMAS
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A PLASMA
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE GENERATION DE PLASMA
Zusammenfassung
(DE)
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines Plasmas, welches in der Vakuumkammer (la) eines Vakuumrezipienten (1) einer zur Plasmabehandlung geeigneten Vorrichtung mit mindestens einer mit Wechselstrom beaufschlagten Induktionsspule (2) mindestens miterzeugt wird, wobei das zur Erzeugung des Plasmas verwendete Gas durch mindestens einen Einlass (3) in die Vakuumkammer (la) eingelassen wird und die Vakuumkammer (la) durch mindestens eine Pumpanordnung (4) bepumpt wird, wobei die Induktionsspule (2) Zur Beeinflussung der Dichte des Plasmas zusätzlich durch einen gegebenenfalls gepulsten Gleichstrom beaufschlagt wird.
(EN)
The invention relates to a method for producing a plasma. Said plasma is produced in the vacuum chamber (la) of a vacuum recipient (1) of a device which is suitable for plasma treatment, by means of at least one induction coil (2) which is acted upon by an alternating current. The gas used to produce the plasma is introduced into the vacuum chamber (la) via at least one inlet (3), and the vacuum chamber (la) is pumped by means of at least one pumping unit (4). In order to influence the density of the plasma, the induction coil (2) is additionally acted upon by an optionally pulsed direct current.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de génération de plasma. Ce plasma est produit dans la chambre à vide (1a) d'un récipient à vide (1) d'un dispositif convenant à un traitement au plasma, à l'aide d'au moins une bobine d'inductance (2) à laquelle est appliqué un courant alternatif. Le gaz utilisé pour la génération du plasma est injecté dans la chambre à vide (1a) par au moins une entrée (3), la chambre à vide (1a) est soumise à l'action d'au moins une unité de pompage (4) et la bobine d'inductance (2), pour influer sur la densité du plasma, est soumise en outre à l'action d'un courant continu éventuellement pulsé.
Auch veröffentlicht als
KR1020047004314
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten