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1. (WO2003018168) CHEMISCHER REAKTOR MIT EINEM FÜLLSTANDSREGLER ZUR AUFBEREITUNG VON NATRIUMSULFID AUFWEISENDEM HAARSCHLAMM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2003/018168 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2002/009176
Veröffentlichungsdatum: 06.03.2003 Internationales Anmeldedatum: 16.08.2002
IPC:
B01D 19/00 (2006.01) ,B01J 19/24 (2006.01)
Anmelder: DORSTEWITZ, Rainer[DE/DE]; DE
Erfinder: DORSTEWITZ, Rainer; DE
Vertreter: KNOBLAUCH, Andreas; Schlosserstrasse 23 60322 Frankfurt/Main, DE
Prioritätsdaten:
101 40 392.523.08.2001DE
Titel (EN) CHEMICAL REACTOR, EQUIPPED WITH A LEVEL REGULATOR, FOR PROCESSING HAIR SLURRY THAT CONTAINS SODIUM SULPHIDE
(FR) REACTEUR CHIMIQUE EQUIPE D'UN REGULATEUR DE NIVEAU ET PERMETTANT DE TRAITER DE LA BOUE DE POILS CONTENANT DU SULFURE DE SODIUM
(DE) CHEMISCHER REAKTOR MIT EINEM FÜLLSTANDSREGLER ZUR AUFBEREITUNG VON NATRIUMSULFID AUFWEISENDEM HAARSCHLAMM
Zusammenfassung: front page image
(EN) The invention relates to a chemical reactor comprising at least one column (1, 4), filled with liquid (2, 5) and having an internal gas chamber (3, 6). A pump (21) siphons off circulatory gas from the internal gas chamber (3) and supplies said gas to the liquid (2) from below. As a result, the internal gas chambers (3, 6) have a negative pressure. The pump is connected to an external chamber (36), both on the siphon side and the pressure side, by means of a respective valve (33, 34). The pressure in the external chamber lies above said negative pressure but below that of the pump. To lower the working level of the liquid, the valve (34) on the siphon side is opened and to raise said level, the valve (33) on the pressure side is opened.
(FR) La présente invention concerne un réacteur chimique comprenant au moins une colonne (1, 4) qui présente un contenu liquide (2, 5) et un espace interne gazeux (3, 6). Une pompe (21) aspire de l'espace interne gazeux (3) du gaz en circulation et l'intègre au liquide (2) par en-dessous. Les espaces internes gazeux (3, 6) sont ainsi soumis à une dépression. La pompe est respectivement reliée côté aspiration et côté pression à un espace externe gazeux (36) par l'intermédiaire d'une vanne (33, 34). La pression de cet espace externe gazeux est supérieure à ladite dépression, mais inférieure à la pression de la pompe. Afin de faire descendre le niveau de travail du liquide, la vanne côté aspiration (34) est ouverte de façon à ouvrir la vanne côté pression (33).
(DE) Ein chemischer Reaktor besitzt mindestens eine Säule (1, 4), die eine Flüssigkeitsfüllung (2, 5) und einen inneren Gasraum (3, 6) aufweist. Eine Pumpe (21) saugt Kreislaufgas aus dem inneren Gasraum (3) ab und speist sie von unten in die Flüssigkeit (2) ein. Die inneren Gasräume (3, 6) stehen infolgedessen unter Unterdruck. Die Pumpe ist sowohl auf der Saugseite als auch auf der Druckseite über je ein Ventil (33, 34) mit einem äußeren Gasraum (36) verbunden, dessen Druck über dem genannten Unterdruck, aber unterhalb des Pumpendrucks liegt. Zum Absenken des Arbeitsniveaus der Flüssigkeit wird das saugseitige Ventil (34), zum Anheben das druckseitige Ventil (33) geöffnet.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)