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1. (WO2003012529) OBJEKTIV, INSBESONDERE PROJEKTIONSOBJECTIV FÜR DIE HALBLEITER-LITHOGRAPHIE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/012529    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2002/008110
Veröffentlichungsdatum: 13.02.2003 Internationales Anmeldedatum: 20.07.2002
IPC:
G02B 27/62 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
KOHL, Alexander [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HOLDERER, Hubert [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LANG, Werner [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BRANDENBURG, Hartmut [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: KOHL, Alexander; (DE).
HOLDERER, Hubert; (DE).
LANG, Werner; (DE).
BRANDENBURG, Hartmut; (DE)
Vertreter: LORENZ, Werner; LORENZ & KOLLEGEN, Alte Ulmer Strasse 2, 89522 Heidenheim (DE)
Prioritätsdaten:
101 36 387.7 26.07.2001 DE
Titel (DE) OBJEKTIV, INSBESONDERE PROJEKTIONSOBJECTIV FÜR DIE HALBLEITER-LITHOGRAPHIE
(EN) OBJECTIVE, PARTICULARLY A PROJECTION OBJECTIVE FOR USE IN SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY
(FR) OBJECTIF, EN PARTICULIER OBJECTIF DE PROJECTION DESTINE A ETRE UTILISE EN LITHOGRAPHIE A SEMI-CONDUCTEUR
Zusammenfassung: front page image
(DE)Bei einem Objektiv, insbesondere einem Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie, mit optischen Elementen, wie Linsen (16) und Spiegel (lla), ist wenigstens ein Teil der optischen Elemente (16, 11a) mit einer reflektierenden Fläche ausserhalb des optisch wirksamen Bereiches als Referenzfläche (12) zur Justierung des optischen Elementes innerhalb des Objektives (8) versehen.
(EN)The invention relates to an objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography, comprising optical elements such as lenses (16) and mirrors (11a). According to the invention, at least a portion of the optical elements (16, 11a) is provided with a reflective surface outside of the optically active area serving as the reference surface (12) for adjusting the optical element inside the objective (8).
(FR)La présente invention concerne un objectif, en particulier un objectif de projection destiné à être utilisé en lithographie à semi-conducteur, comprenant des éléments optiques tels que des lentilles (16) et des miroirs (IIa). Dans ledit objectif, au moins une partie des éléments optiques (16, 11a) présente une surface réfléchissante à l'extérieur de la zone optiquement active, servant de surface de référence (12) pour permettre l'ajustage de l'élément optique à l'intérieur de l'objectif (8).
Designierte Staaten: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)