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1. (WO2003009021) VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/009021    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE2002/002392
Veröffentlichungsdatum: 30.01.2003 Internationales Anmeldedatum: 25.06.2002
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    14.02.2003    
IPC:
G02B 1/02 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
HARTMAIER, Jürgen [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FIOLKA, Damian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ZENZINGER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MECKING, Birgit [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DITTMANN, Olaf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GRUNER, Toralf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KAMENOV, Vladimir [BG/DE]; (DE) (For US Only).
BRUNOTTE, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: HARTMAIER, Jürgen; (DE).
FIOLKA, Damian; (DE).
ZENZINGER, Markus; (DE).
MECKING, Birgit; (DE).
DITTMANN, Olaf; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
KAMENOV, Vladimir; (DE).
BRUNOTTE, Martin; (DE)
Vertreter: MUSCHIK, Thomas; Patentanwälte, Ruff, Wilhelm, Beier, Dauster & Partner, Kronenstrasse 30, 70174 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
101 33 842.2 18.07.2001 DE
Titel (DE) VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT
(EN) DELAY ELEMENT MADE FROM A CUBIC CRYSTAL AND CORRESPONDING OPTICAL SYSTEM
(FR) ELEMENT DE RETARD EN CRISTAL CUBIQUE ET SYSTEMES OPTIQUES COMPORTANT UN TEL ELEMENT
Zusammenfassung: front page image
(DE)Als Verzögerungselemente für das tiefe Ultraviolett werden Zentimeter dicke Platten oder Linsen aus Kalziumfluorid oder Bariumfluorid mit Strahlausbreitung in Richtung der < 110 >-Kristallrichtung oder einer dazu äquivalenten Hauptachse vorgeschlagen, die spannungslos eingebaut werden. Eignung besonders für die Mikrolithographie bei 157 nm.
(EN)Centimetre-thick sheets or lenses made from calcium fluoride or barium fluoride with beam propagation in the direction of the < 110 > crystal direction or a main axis equivalent thereto, used as delay elements for the deep ultraviolet are disclosed, embodied in a stress-free form. The above is particularly suitable for microlithography at 157 nm.
(FR)L'invention concerne des éléments de retard destinés à l'ultraviolet profond, se présentant sous la forme de plaques ou de lentilles de plusieurs centimètres d'épaisseur, réalisées en fluorure de calcium ou de baryum, et présentant une propagation du rayon dans la direction cristalline <110> ou un axe principal similaire, lesdites plaques ou lentilles étant montées sans tension. Lesdits éléments de retard sont particulièrement destinés à la microlithographie à 157 nm.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)