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1. (WO2003005418) ANORDNUNG ZUM HANDHABEN UND/ODER AUFBEWAHREN EINER MASKE UND/ODER EINES SUBSTRATES
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2003/005418    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2002/005508
Veröffentlichungsdatum: 16.01.2003 Internationales Anmeldedatum: 18.05.2002
IPC:
H01L 21/68 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Anmelder: AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17, 52072 Aachen (DE) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
SCHWAMBERA, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KITTEL, Florenz [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FRANKEN, Walter [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SCHWAMBERA, Markus; (DE).
KITTEL, Florenz; (DE).
FRANKEN, Walter; (DE)
Vertreter: GRUNDMANN, Dirk; c/o Rieder & Partner, Corneliusstrasse 45, 42329 Wuppertal (DE)
Prioritätsdaten:
101 32 347.6 04.07.2001 DE
101 40 417.4 17.08.2001 DE
Titel (DE) ANORDNUNG ZUM HANDHABEN UND/ODER AUFBEWAHREN EINER MASKE UND/ODER EINES SUBSTRATES
(EN) ASSEMBLY FOR MANIPULATING AND/OR STORING A MASK AND/OR A SUBSTRATE
(FR) SYSTEME POUR MANIPULER ET/OU MAINTENIR UN MASQUE ET/OU UN SUBSTRAT
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Anordnung zum Handhaben und/ oder Aufbewahren einer Maske oder eines Substrates mit einem einen Rahmen aufweisenden Substrat- oder Maskenhalter (1, 2). Um die Beschichtung/Strukturierung von Substraten innerhalb einer mehrere Beschichtungs-/Strukturierungseinheiten umfassenden Anordnung zu verbessern und insbesondere die Ausrichtung während des Handhabens exakt beizubehalten, schlägt die Erfindung vor, gemehrere den Rahmen (1, 2) gabelartig untergreifende Stangen (3) vorzusehen, von denen mindestens zwei eine eine schneidenförmige Umfangskante (4') aufweisende Scheibe (4, 5) tragen, welche Scheibe (4, 5) jeweils in eine dem Rahmen (1,2) zugeordnete Kerbe (6) eingreift, welche Kerbe (6,7) einen Kerbgrund (8) besitzt, der einen Scheitel (9) ausbildet.
(EN)The invention relates to an assembly for manipulating and/or storing a mask or a substrate. Said assembly contains a substrate or mask holder (1, 2), which comprises a frame. The aim of the invention is to improve the coating or structuring of substrates in an assembly containing several coating or structuring units and in particular to precisely maintain the alignment during manipulation. This is achieved by several rods (3), which engage with the underside of the frame (1, 2). At least two of said rods carry a disc (4, 5), which has a blade-shaped peripheral edge (4'). Each disc (4, 5) engages in a respective notch (6) that is allocated to the frame (1, 2), said notch (6, 7) having a notch base (8) that forms a vertex (9).
(FR)L'invention concerne un système pour manipuler et/ou maintenir un masque ou un substrat au moyen d'un support de substrat ou de masque (1, 2) comportant un cadre. Selon l'invention, pour améliorer les opérations de revêtement/structuration de substrats à l'intérieur d'un système comprenant plusieurs unités de revêtement/structuration et, en particulier, pour maintenir avec exactitude l'orientation au cours de la manipulation, on utilise plusieurs barres (3) venant en prise avec le cadre (1, 2) par en-dessous à la manière d'une fourche. Au moins deux de ces barres portent un disque (4, 5) présentant une arête circonférentielle (4') en forme de taillant. Ce disque (4, 5) s'engage dans une entaille (6) associée au cadre (1, 2), cette entaille (6, 7) possédant un fond (8) qui forme une crête (9).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)