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1. (WO2002040739) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM ZUFÜHREN EINES IN DIE GASFORM GEBRACHTEN FLÜSSIGEN AUSGANGSSTOFFES IN EINEN CVD-REAKTOR
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Veröff.-Nr.: WO/2002/040739 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2001/014302
Veröffentlichungsdatum: 23.05.2002 Internationales Anmeldedatum: 27.10.2001
IPC:
C23C 16/448 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16
Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase [chemical vapour deposition = CVD]
44
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
448
gekennzeichnet durch das Verfahren zum Erzeugen von Reaktionsgasströmen, z.B. durch Verdampfung oder Sublimation von Vorläufermaterialien
Anmelder:
AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17 52072 Aachen, DE (AllExceptUS)
STRAUCH, Gerd [DE/DE]; DE (UsOnly)
LINDNER, Johannes [DE/DE]; DE (UsOnly)
SCHUMACHER, Marcus [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
STRAUCH, Gerd; DE
LINDNER, Johannes; DE
SCHUMACHER, Marcus; DE
Vertreter:
GRUNDMANN, Dirk; Corneliusstrasse 45 42329 Wuppertal, DE
Prioritätsdaten:
100 57 491.220.11.2000DE
Titel (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM ZUFÜHREN EINES IN DIE GASFORM GEBRACHTEN FLÜSSIGEN AUSGANGSSTOFFES IN EINEN CVD-REAKTOR
(EN) DEVICE AND METHOD FOR SUPPLYING A CVD REACTOR WITH A LIQUID STARTING MATERIAL ENTERING INTO A GASEOUS PHASE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR ALIMENTER UN REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR EN MATERIAU DE BASE, PASSE DE LA PHASE LIQUIDE A LA PHASE GAZEUSE
Zusammenfassung:
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Zuführen eines in die Gasform gebrachten flüssigen Ausgangsstoffes in einen CVD-Reaktor, mit einer einen quer in einen Gasströmungskanal (3) mündenden Flüssigkeitsskanal (2) aufweisenden Düse (1), zur Bildung eines Aerosols, welches durch Wärmezufuhr verdampft. Um das gattungsgemäße Verfahren bzw. die gattungsgemäße Vorrichtung hinsichtlich der Dosierbarkeit zu verbessern, schlägt die Erfindung vor, dass die Verdampfungswärme ausschließlich dem Gas entzogen wird.
(EN) The invention relates to a method for supplying a CVD reactor with a liquid starting material entering into a gaseous phase, consisting of a nozzle (1) comprising a liquid channel (2) which leads crosswise into a gas flow channel (3) for producing an aerosol which evaporates with heat. The aim of the invention is to improve the dosability of the generic method or device in such a way that the heat from evaporation is subsequently removed from the gas.
(FR) L"invention concerne un procédé pour alimenter un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur en matériau de base, passé de la phase liquide à la phase gazeuse, au moyen d"une buse (1) comportant un canal pour liquide (2) se jetant transversalement dans un canal pour flux gazeux (3), afin de réaliser un aérosol qui s"évapore sous l"influence de la chaleur. Cette invention vise à perfectionner le procédé générique et le dispositif générique en termes d"aptitude au dosage. A cet effet, la chaleur provoquant l"évaporation provient exclusivement du gaz.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Also published as:
KR1020020084095EP1364076JP2004514063US20040013800AU2002221937