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1. (WO2002040400) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HOCHREINEM, GRANULAREM SILIZIUM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2002/040400 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2001/012756
Veröffentlichungsdatum: 23.05.2002 Internationales Anmeldedatum: 03.11.2001
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 04.05.2002
IPC:
B01J 19/02 (2006.01) ,C01B 33/027 (2006.01) ,C01B 33/029 (2006.01) ,C01B 33/03 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
01
Physikalische oder chemische Verfahren oder Vorrichtungen allgemein
J
Chemische oder physikalische Verfahren, z.B. Katalyse, Kolloidchemie; entsprechende Vorrichtungen hierfür
19
Chemische, physikalische oder physiko-chemische Verfahren allgemein; entsprechende Vorrichtungen hierfür
02
Apparate, gekennzeichnet durch die Herstellung aus einem wegen seiner chemischen Widerstandsfähigkeit ausgewählten Material
C Chemie; Hüttenwesen
01
Anorganische Chemie
B
Nichtmetallische Elemente; deren Verbindungen
33
Silicium; dessen Verbindungen
02
Silicium
021
Herstellung
027
durch Zersetzung oder Reduktion von gasförmigen oder dampfförmigen Siliciumverbindungen außer Siliciumdioxid oder Material, das Siliciumdioxid enthält
C Chemie; Hüttenwesen
01
Anorganische Chemie
B
Nichtmetallische Elemente; deren Verbindungen
33
Silicium; dessen Verbindungen
02
Silicium
021
Herstellung
027
durch Zersetzung oder Reduktion von gasförmigen oder dampfförmigen Siliciumverbindungen außer Siliciumdioxid oder Material, das Siliciumdioxid enthält
029
durch Zersetzung von Monosilan
C Chemie; Hüttenwesen
01
Anorganische Chemie
B
Nichtmetallische Elemente; deren Verbindungen
33
Silicium; dessen Verbindungen
02
Silicium
021
Herstellung
027
durch Zersetzung oder Reduktion von gasförmigen oder dampfförmigen Siliciumverbindungen außer Siliciumdioxid oder Material, das Siliciumdioxid enthält
03
durch Zersetzung von Siliciumhalogeniden oder Halogensilanen oder deren Reduktion mit Wasserstoff als einzigem reduzierenden Mittel
Anmelder:
SOLARWORLD AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Kurt-Schumacher-Strasse 8-9 53113 Bonn, DE (AllExceptUS)
KÖNIG, Theo [DE/DE]; DE (UsOnly)
PFAFFELHUBER, Matthias [DE/US]; US (UsOnly)
HEROLD, Heiko [DE/DE]; DE (UsOnly)
HOLDENRIED, Günter [DE/DE]; DE (UsOnly)
MLECZKO, Leslaw [PL/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
KÖNIG, Theo; DE
PFAFFELHUBER, Matthias; US
HEROLD, Heiko; DE
HOLDENRIED, Günter; DE
MLECZKO, Leslaw; DE
Vertreter:
RAU, Albrecht; Rau, Schneck & Hübner Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Prioritätsdaten:
10057481.520.11.2000DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HOCHREINEM, GRANULAREM SILIZIUM
(EN) METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE, GRANULAR SILICON
(FR) PROCEDE DE PREPARATION DE SILICIUM GRANULAIRE A PURETE ELEVEE
Zusammenfassung:
(DE) Verfahren zur Herstellung von hochreinem, granularem Silizium durch Zersetzung eines siliziumhaltigen Gases in einem Reaktor, der aus einem kohlefaserverstärkten Werkstoff auf basis von Siliziumcarbid besteht, entsprechender Reaktor und dessen Verwendung bei der Herstellung von Silizium.
(EN) The invention relates to a method for producing highly pure, granular silicon by decomposing a gas containing silicon in a reactor consisting of a silicon carbide-based carbon-fibre reinforced material, to a corresponding reactor and to the use of said reactor for producing silicon.
(FR) La présente invention concerne un procédé permettant la préparation de silicium granulaire à pureté élevée, par conversion d'un gaz à teneur en silicium dans un réacteur qui est constitué d'un matériau renforcé par fibres de carbone à base de carbure de silicium. Cette invention concerne également le réacteur correspondant et son utilisation pour produire du silicium.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
EP1337463US20040047795AU2002221805