WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2001085852) VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG DER OBERFLÄCHE VON SILIZIUMDIOXID
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2001/085852    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/AT2001/000135
Veröffentlichungsdatum: 15.11.2001 Internationales Anmeldedatum: 09.05.2001
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    14.11.2001    
IPC:
C01B 33/18 (2006.01), C09C 1/30 (2006.01)
Anmelder: ÖKOPHARM FORSCHUNGS- UND ENTWICKLUNGS-GMBH [AT/AT]; Moosham 29, A-5580 Unternberg (AT) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW only).
KAZNACHEEV, Vlail Petrovic [RU/RU]; (RU) (For US Only).
TROFIMOV, Aleksander [RU/RU]; (RU) (For US Only).
BREN, Eugen [IL/AT]; (AT) (For US Only).
EHRENBERGER, Michael [AT/AT]; (AT) (For US Only).
RITZER, Stefan [AT/AT]; (AT) (For US Only).
KÖSSLER, Peter [AT/AT]; (AT) (For US Only).
FUCHS, Norbert [AT/AT]; (AT) (For US Only)
Erfinder: KAZNACHEEV, Vlail Petrovic; (RU).
TROFIMOV, Aleksander; (RU).
BREN, Eugen; (AT).
EHRENBERGER, Michael; (AT).
RITZER, Stefan; (AT).
KÖSSLER, Peter; (AT).
FUCHS, Norbert; (AT)
Vertreter: SONN, Helmut,; Riemergasse 14, A-1010 Wien (AT)
Prioritätsdaten:
A 818/2000 10.05.2000 AT
Titel (DE) VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG DER OBERFLÄCHE VON SILIZIUMDIOXID
(EN) METHOD FOR REDUCING THE SURFACE OF SILICON DIOXIDE
(FR) PROCEDE POUR REDUIRE LA SURFACE DU DIOXYDE DE SILICIUM
Zusammenfassung: front page image
(DE)Beschrieben wird ein Verfahren zur Verringerung der Oberfläche von Silizium dioxid, welches sich dadurch auszeichnet, dass Siliziumdioxid in eine elektromagnetische Abschirmungsvorrichtung, ausgewählt aus einer Aluminium/Magnesium-Metallschirmvorrichtung und einer hypomagnetischen Kammer aus Permalloystahl, eingebracht wird und für eine Zeitdauer von mindestens 3, vorzugsweise von mindestens 6 Stunden, inkubiert wird.
(EN)The invention relates to a method for reducing the surface of silicon dioxide. The method is characterised in that silicon dioxide is introduced into an electromagnetic shielding device selected from the following: an aluminium/magnesium metal shielding device and a hypomagnetic chamber consisting of permalloy steel; and incubated for a period of at least 3, preferably at least 6 hours.
(FR)L'invention concerne un procédé pour diminuer la surface du dioxyde de silicium, se caractérisant en ce que le dioxyde de silicium est mis à incuber pour une durée d'au moins 3 heures, et de préférence d'au moins 6 heures, dans un dispositif de protection électromagnétique sélectionné à partir d'un dispositif de protection métallique aluminium/magnésium et d'une chambre hypomagnétique en acier type permalloy.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)