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1. (WO2001067482) HOHLKATHODEN-SPUTTER-IONENQUELLE ZUR ERZEUGUNG VON IONENSTRAHLEN HOHER INTENSITÄT
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2001/067482    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2001/000996
Veröffentlichungsdatum: 13.09.2001 Internationales Anmeldedatum: 31.01.2001
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    20.07.2001    
IPC:
H01J 27/04 (2006.01), H01J 27/20 (2006.01), H01J 37/08 (2006.01)
Anmelder: GESELLSCHAFT FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG MBH [DE/DE]; Planckstrasse 1, 64291 Darmstadt (DE) (For All Designated States Except US).
MÜLLER, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: MÜLLER, Michael; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
GESELLSCHAFT FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG MBH; Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, Stabsabteilung Patente und Lizenzen, Postfach 3640, 76021 Karlsruhe (DE)
Prioritätsdaten:
100 10 706.0 04.03.2000 DE
Titel (DE) HOHLKATHODEN-SPUTTER-IONENQUELLE ZUR ERZEUGUNG VON IONENSTRAHLEN HOHER INTENSITÄT
(EN) HOLLOW CATHODE SPUTTER ION SOURCE FOR GENERATING HIGH-INTENSITY ION BEAMS
(FR) SOURCE IONIQUE DE PULVERISATION A CATHODE CREUSE PERMETTANT D'OBTENIR DES FAISCEAUX IONIQUES D'INTENSITE ELEVEE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Sputter-Hohlkathoden Geometrie ist besonders für die Ökonomie und die Langzeitkonstanz des Ionenquellenbetriebs von Vorteil. Die gesputterten neutralen Teilchen gelangen in das Plasma und werden dort durch schnelle Elekronen ionisiert und können nun, ebenfalls im Kathodenfall beschleunigt, entweder die Elektrode durch das Emissionsfenster verlassen oder durch 'Selfsputtering' oder auch durch 'Sticking' an der Kanalwand den Ionenproduktionsprozess unterstützen. Nicht ionisierte neutrale Teilchen treffen ebenfalls auf die Innenwand der Elektrode und sind somit weiter im Produktionsprozess präsent. Dies stellt einen ökonomischen Vorteil dar gegenüber der herkömmlichen Sputter-Penningquelle, in welcher die meisten Teilchen, welche nicht als Ionen extrahiert werden, für weitere Ionenerzeugung verloren sind.
(EN)The sputter hollow cathode geometry is particularly advantageous in terms of the economy and long-term consistency of the ion source operation. The sputtered neutral particles reach the plasma, are ionised by rapid electrons and can then, accelerated during the cathode drop, either leave the electrode through the emission window, or support the ion production process by 'self-sputtering' or also by 'sticking' on to the channel wall. Non-ionised neutral particles also strike the inner wall of the electrode and thus remain present in the production process. The invention has economic advantages in relation to the conventional Penning sputter source, in which the majority of particles that are not extracted as ions are lost for further ion production.
(FR)La présente invention concerne une géométrie de cathode de pulvérisation creuse qui présente des avantages particuliers en ce qui concerne l'économie et la régularité à long terme du fonctionnement de la source ionique. Les particules neutres pulvérisées arrivent dans le plasma et y sont ionisées par des électrons à vitesse élevée, lesdites particules pouvant alors, même lorsqu'elles sont accélérées en cas de chute cathodique, soit quitter l'électrode par la fenêtre d'émission, soit entretenir le processus de production ionique par 'auto-pulvérisation' ou par 'adhérence' à la paroi de canal. Les particules neutres non ionisées se retrouvent également sur la paroi interne de l'électrode et restent ainsi présentes pour le processus de production. Ceci représente un avantage économique vis-à-vis de la source de pulvérisation de Penning dans laquelle la plupart des particules qui ne sortent pas sous forme d'ions, sont perdues pour la suite du processus de production d'ions.
Designierte Staaten: AU, CA, JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)