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1. (WO2000078770) ANTIMIKROBIELLE SILOXANQUAT-FORMULIERUNGEN, DEREN HERSTELLUNG UND VERWENDUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2000/078770    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2000/005438
Veröffentlichungsdatum: 28.12.2000 Internationales Anmeldedatum: 14.06.2000
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    11.01.2001    
IPC:
A01N 55/00 (2006.01), A01N 55/10 (2006.01), A61L 2/16 (2006.01), C07F 7/10 (2006.01), C07F 7/18 (2006.01)
Anmelder: CLARIANT GMBH [DE/DE]; Brüningstrasse 50 D-65929 Frankfurt am Main (DE)
Erfinder: RAAB, Klaus; (DE).
BENDER, Walter; (CH)
Prioritätsdaten:
199 28 127.0 19.06.1999 DE
Titel (DE) ANTIMIKROBIELLE SILOXANQUAT-FORMULIERUNGEN, DEREN HERSTELLUNG UND VERWENDUNG
(EN) ANTIMICROBIAL SILOXANE QUAT FORMULATIONS AND THE PRODUCTION AND USE THEREOF
(FR) FORMULATIONS DE SILOXANES QUATERNAIRES ANTIMICROBIENNES, LEUR PRODUCTION ET LEUR UTILISATION
Zusammenfassung: front page image
(DE)Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer antimikrobiellen Formulierung, umfassend die Reaktion einer Verbindung der Formel (1): (R1O)3Si-(CH2)3-X, mit einer Verbindung der Formel (2): (H3C)NR2R3, worin R1 C1-C4-Alkyl, R2 C8-C20-Alkyl, R3 Methyl oder C8-C20-Alkyl, X Cl, Br bedeuten, unter Ausschluss von Iodiden im Molverhältnis von (1):(2) = 1:0,9 bis 1:1,4, gekennzeichnet durch die Durchführung der Reaktion in einem Lösungsmittel, welches der Formel (3) entspricht, worin R4 C1-C4-Alkyl, R5 H oder Methyl, R6 H oder Methyl, m 2, 3, 4 oder 5, wobei für m = 2 aber R4 und R6 nicht gleichzeitig Methyl bedeuten, und dieses Lösungsmittel nach der Reaktion nicht abgetrennt wird, oder die Zugabe dieses Lösungsmittels nach der Reaktion. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist eine antimikrobielle Formulierung, herstellbar nach dem oben beschriebenen Verfahren.
(EN)The invention relates to a method for producing an antimicrobial formulation by reacting a compound of formula (1): (R1O)3Si-(CH2)3-X with a compound of formula (2): (H3C)NR2R3, wherein R1 means C1-C4-alkyl, R2 means C8-C20-alkyl and R3 means methyl or C8-C20-alkyl and X means Cl, Br, excluding iodides, in a mol ratio of (1):(2) = 1:0.9 to 1:1.4. The invention is characterised in that the reaction is carried out in a solvent corresponding to formula (3), wherein R4 means C1-C4-alkyl, R5 means H or methyl, R6 means H or methyl, m means 2, 3, 4 or 5, although for m = 2, R4 and R6 do not both mean methyl, said solvent not being separated off after the reaction, or by the addition of this solvent after the reaction. The invention also relates to an antimicrobial formulation which can be produced according to the method described above.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'une formulation antimicrobienne. Ce procédé consiste à faire réagir un composé de la formule (1): (R1O)3Si-(CH2)3-X et un composé de la formule (2): (H3C)NR2R3, où R1 représente alkyle C1-C4 ; R2 représente alkyle C8-C20 ; R3 représente méthyle ou alkyle C8-C20 ; X représente Cl, Br à l'exclusion d'iodure dans un rapport molaire de (1):(2) = 1:0,9 à 1:1,4. L'invention est caractérisée en ce que la réaction est effectuée dans un solvant correspondant à la formule (3) où R4 représente alkyle C1-C4 ; R5 représente H ou méthyle ; R6 représente H ou méthyle ; m vaut 2, 3, 4 ou 5, sachant que si m = 2 alors R4 et R6 ne représentent pas simultanément du méthyle. Ce solvant n'est pas séparé après la réaction ou son apport effectué après la réaction. L'invention concerne également une formulation antimicrobienne obtenue selon le procédé susmentionné.
Designierte Staaten: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)